这说明虽然表面轰击效应会造成一定的IP胶层厚度损失，显影蚀刻去膜原理但由于等离子体能量少，时间短，厚度损失较小。一般来说，等距分离子表面的处理对IP胶粘剂的厚度没有明显影响。经等离子清洗机处理后，IP胶在DIW上的接触角显著降低，即未经处理的静态接触角为77°。下降到45度，前向接触角88度，下降到51度，后向接触角33度，下降到10度。
8、控制显影剂、水位。9、干燥风应保持到室内5-6度。槽内和喷头内的水垢应定期清洗，涂胶曝光显影蚀刻工序简称防止杂质污染板，造成显影液分布不均匀。11、为防止板的操作，板应停止转动装置，应立即停止放板，并将板取出至显影平台中间，如未完全开发，因二次开发。12、显影吹干后的板应用吸水纸隔开，防止干膜附着而影响蚀刻质量。质量确认:完整性:成像后可用刀片轻轻刮拭裸铜表面，无干膜残留。
在半导体的后期生产过程中，显影蚀刻去膜原理由于指纹、助焊剂、焊锡、划痕、污渍、灰尘、树脂残渣、自然氧化等，在器件和材料的表面会形成各种污渍，这将明显影响包装生产和产品质量。使用等离子体清洗技术，这些在生产过程中形成的分子级污染物可以很容易地去除，从而显著提高封装的可加工性、可靠性和成品率。在芯片封装生产中，等离子清洗工艺的选择取决于后续工艺对材料表面的要求，材料表面的原始特性，以及表面污染物的化学成分和性质。
半成品的粘接性能受环境(如温度、湿度、光照、通风等)以及化合物的有效性和粉尘的影响。涂胶或涂油工艺操作过程复杂，显影蚀刻去膜原理要求工艺点多。受温度、湿度等因素影响，温差大的季节容易出现胶粘剂质量波动的问题。同时还存在非环保等严重缺陷，存在操作人员健康安全隐患。如今，等离子火焰机低温等离子技术广泛应用于汽车工业中的材料表面处理、汽车仪表、座椅、发动机、轮辋、汽...
