02孔壁镀层的空洞产生的原因：1PTH造成的孔壁镀层空洞 （1）沉铜缸铜含量、氢氧化钠与甲醛的浓度 （2）槽液的温度 （3）活化液的控制 （4）清洗的温度 （5）整孔剂的使用温度、浓度与时间 （6）还原剂的使用温度、浓度与时间 （7）震荡器和摇摆 2图形转移造成的孔壁镀层空洞 （1）前处理刷板 （2）孔口残胶 （3）前处理微蚀 3图形电镀造成的孔壁镀层空洞 （1）图形电镀微蚀 （2）镀锡（铅锡）分散性差 造成镀层空洞的因素很多，柠檬醛的亲水性较常见的是PTH镀层空洞，通过控制药水的相关工艺参数能有效的减少PTH镀层空洞的产生。
在一定条件下，柠檬醛的亲水性它与[H]或H-相互作用形成羟基(-OH)附着在基材表面。在这种情况下，基板用 APS（An1inopropyl triethox-ysi-lane）等离子体进行硅烷处理。戊二醛的作用使一些蛋白质或酶，如胰蛋白酶，在底物表面分离成化学键。该方法允许将活的生物分子固定在金属、无机、无孔、非松散的生物材料表面，显着提高材料的表面活性。
一定条件下会与[H]或H-作用，柠檬醛的亲水性形成粘附于基体表面的羟基(-OH)在这种情况下用APS(An1inopropyltriethox-ysi-lane)等离子体对基体进行硅烷化处理．再通过戊二酸醛的作用可将一些蛋白质或酶的分了如胰蛋白酶，以化学键联接在基体表面上。 此法可以将活的生物分子固定在金属、无机、非孔状、非松散生物材料的表面，从而使材料表面活性大大提高。
这些微电路电子产品的制造和组装对TO玻璃的表面清洁度有很高的要求，醛的亲水性产品在ITO玻璃上是有机的和有机的，以防止良好的可焊性、牢固的焊接和TO电极端子。物质残留。清洁 TO 玻璃对于 IC BUMP 的连续性非常重要，因为它没有连接到 ITO 玻璃。在目前的ITO玻璃清洗过程中，大家都在尝试用各种清洗剂清洗（酒精清洗、棉签+柠檬水清洗...
