然而，氧化镁亲水性疏水性现在的关键问题是找到合适的催化剂来改善 C3H8 的 CO2 氧化反应。丙烷在纯等离子体作用下的主要产物是C2H2丙烷转化，C2H2产率随着等离子体能量密度的增加而增加。 0ES在线检测到的活性物种主要是H和甲基自由基，表明CC键主要被丙烷裂解，其次是CH键。
引线键合前：芯片贴在基片上，氧化镁亲水性经高温固化后，基片上存在的污染物可能含有微粒和氧化物等，这些微粒和氧化物由于物理和化学反应，使引线与芯片和基片之间的焊接不完全或粘着不良，导致连接强度不足。等离子清洗机清洗可以明显改善引线连接前的表面活性，从而提高键合强度和引线的拉力均匀性。
这也说明其亲水性和显影均匀性得到了显着改善。它已得到改进。。ITO 玻璃在线等离子清洗机处理概述 氧化铟锡 (ITO) 薄膜 导电玻璃由于其较高的可见光透射率和导电性而被用作液晶显示器 (LCD) 等平板显示器的透明导电电极。直流或射频磁控反应溅射技术可用于光谱控制ITO薄膜的沉积速率，氧化镁亲水性疏水性以获得具有均匀可见光透射和电导率的ITO薄膜导电玻璃。
真空plasam清洗技术不分处理对象的基材类型，氧化镁亲水性对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料(如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯)等原基材料都能很好处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗，还具备环保、安全、易控制等优势，因此在很多方面，尤其是精密件清洗、新半导体材料研究以及集成电路器件制造业中逐渐取代了湿法清洗工艺。。
