YAO等利用高频等离子体实现了CH向C2烃的CO2氧化反应，氧化层附着力不好甲烷转化率为31%，二氧化碳转化率为24%，C2烃选择性为64%。。等离子清洗原理及面板结构清洗原理等离子是物质存在的状态。物质通常以固态、液态和气态三种状态存在，但在特殊情况下，还有第四种状态，比如地球的大气层。中心的电离层。以下物质以等离子体状态存在：快速移动的电子、活化的中性原子、分子、自由基、电离的原子和分子、未反应的分子、原子等。
2、广泛的适用性:不管衬底类型的处理对象,可以被处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料可以处理;3、低温:接近正常温度,特别适用于聚合物材料,电晕和火焰方法具有更长的储存时间和更高的表面张力。
在等离子处理器激活和清洗过程中，氧化层附着力不好工艺气体的应用分为三点： 1.清洁等离子处理器的表面Ar等离子体通常用于过渡表面粒子以达到粒子分散的效果。 ..松动（从基材表面分离），然后通过超声波或离心清洗去除表面颗粒。氩等离子体或氩氢等离子体用于清洁表面，特别是在半导体材料的封装过程中，以防止导线氧化。
长期等离子处理（15分钟或更长时间）不仅活化（活化）材料表面，氧化层附着力不好而且显着降低了蚀刻和蚀刻表面的表面接触角和润湿性。等离子清洗机的优点首先，待清洗物可在等离子清洗后进行干燥，无需进一步干燥即可送至下道工序。可以提高整个工艺线的加工效率。其次，等离子清洗机使用户远离对人体有害的有害溶剂，避免了被清洗物容易被湿法清洗的问题。 ;三、避免使用三氯乙烷等对ODS有害的溶剂。
电镀和阳极氧化层附着力
