硅烷偶联剂亲水性

通常认为甲烷在等离子体条件下通过两种途径产生乙炔： 1. CH自由基偶联反应； 2. C2H6和C2H4的脱氢反应。系统中CO2浓度的不断增加会消耗大量高能电子、C2H6、C2H4和高能电子。电子碰撞的可能性不断降低，偶联剂附着力进一步的脱氢反应受到阻碍，C2H4的产生量进一步减少。因此，随着体系中CO2浓度的增加，C2H6和C2H4的摩尔分数趋于增加，C2H2的摩尔分数减小。。

偶联剂附着力

一般而言，偶联剂附着力CEO2 / Y-AL203 是一种出色的催化剂，可将 CH4 完全氧化生成 CO，并且不会导致生成 C2 碳氢化合物。同样，SM2O3 / Y-AL2O3 是等离子体中 CH4 氧化偶联反应的优良催化剂。其在等离子体气氛中的催化活性尚不清楚。这表明等离子体-催化相互作用的机理不同于纯催化。因此，有必要进一步研究等离子体表面处理装置与催化剂的相互作用机理。

等离子体设备作用下二氧化碳加入对CH4转化反应的影响；在氧等离子体氧化偶联甲烷反应中，哪些硅烷偶联剂附着力氧气的用量将直接影响CH4的转化率和C2烃的选择性。较低的氧量会导致CH4转化率较低，而较高的氧量会导致CH4氧化为COx(x=1,2）。对于等离子体设备作用下的CO2氧化CH转化反应，也有适宜的CO2添加量。

具体分类如下：分类高温等离子体低温等离子体热等离子体冷等离子体温度范围10^6~10^8K10^3~10^5K10^2~10^5K热力学性质热力学平衡局部热力学平衡非热力学平衡应用范围太阳上等离子体电弧等离子体辉光放电受控热核聚变高频等离子体电晕放电。plasma等离子发生器广泛应用于刻蚀、脱胶、涂层、灰度、等离子外表处理。