作为一种干法清洗的等离子体清洗机具有可控性强，硅片蚀刻的目的一致性好，不仅能完全去除光阻有机物，等离子体清洗机还能激活和粗化硅片表面，提高晶圆表面润湿性。
由于其高硬度，硅片蚀刻加工可以在晶圆表面形成非常薄的氮化硅薄膜(在硅片加工中，使用最广泛的单位是埃)，厚度约为几十埃，以保护外观，避免划伤。此外，其优异的绝缘强度和抗氧化性也能达到良好的隔离效果。氮化硅的缺点是它的流动性比氧化物少，难以蚀刻。等离子体刻蚀可以克服刻蚀的困难。等离子蚀刻机是通过化学或物理或化学结合来实现的。另一种常见的结构是盘香味结构，硅片蚀刻的目的它使用了平面卷线圈类型如下图所示。另外还有一种特殊的盘香味结构，是将线圈加入到电离体中的放电型，其结构如下图所...
