1879年，二氧化钛紫外线亲水性由克鲁克斯首次提出“物质第四态”，由此等离子科学作为全新学科登上历史舞台。Strong在他的书中详细的描述了他利用低压辉光放电产生等离子体借此处理二氧化硅基片，然后在二氧化硅基片上镀一层铝薄膜，经过试验发现二氧化硅和铝薄膜之间的亲附力得到了很大的提升。这也是第一次有记载的利用等离子体进行清洗的实验。
等离子体清洗机对玻璃表面的清洗，二氧化钛紫外线亲水性除了机械作用外，更重要的是化学上的活性氧，在等离子体中被激发出Ar *，使氧分子对被激发的氧分子进行高能电子冲击使其分解，形成激发氧污染的润滑油和硬脂酸成分为烃类，这些烃类被活性氧氧化产生二氧化碳和水，以去除玻璃表面的油脂。润滑油和硬脂酸是手机玻璃表面最常见的污染物。污染后，玻璃表面与水的接触角增大，影响离子交换。传统的清洗方法复杂，污染严重。
工件表面的污染物，二氧化钛紫外线亲水性如油脂、助焊剂、感光膜、脱模剂、冲床油等，很快就会被氧化成二氧化碳和水，而被真空泵抽走，从而达到清洁表面，改善浸润性和粘结性的目的。低温等离子处理仅涉及材料的表面，不会对材料主体的性质产生影响。由于等离子体清洗是在高真空下进行的，所以等离子体中的各种活性离子的自由程很长，他们的穿透和渗透力很强，可以进行复杂结构的处理，包括细管和盲孔。
等离子清洗机等离子表面处理器的氧等离子体去除槽内的有机基片后，亲水性纳米级二氧化钛对底层的氧化硅有各向同性和各向异性的等离子体刻蚀方案。如果采用各向同性蚀刻(如高电压，低射频功率和高比例的CF4为氧化硅蚀刻或高比例的氯氮化钛腐蚀),...
