1、表面活化能的概念（肺部人工合成的表面活化剂） 4) 暴露在氧气和水环境中半导体晶片会形成自然氧化层。这种氧化膜不仅会干扰半导体制造中的许多步骤，表面活化能的概念而且它还含有某些金属杂质，这些杂质会在某些条件下移动到晶圆上并导致电气缺陷。该氧化膜的去除通常通过浸泡在稀氢氟酸中来完成。等离子表面处理机在半导体晶圆清洗工艺中的应用具有工艺简单、操作方...
