图一 水平式等离子清洗机原理示意图CCP典型放电条件：①压强10Pa-100Pa；②电极间距1cm-5cm；③高频功率20W-200W，超强反应活性附着力助剂生成等离子体密度约为1016m-3量级CCP放电优势：能够较容易生成大口径等离子体，放电现象较为稳定。
等离子体火焰处理器对双陶瓷基板平台结构有集中等离子体的作用:金刚石具有高硬度、热导率、化学稳定性和光学透过率等理化性能，附着力助剂电镀面这些优良的性能，等离子火焰处理器使金刚石成为许多领域的理想材料。例如，它可以用作电子束提取窗口、高频大功率电子器件、高灵敏的声表面波滤波器、切割工具等。
低温等离子清洗机三种比较常见的处理方法:1。低温等离子体清洗机表面刻蚀在低温等离子体的影响下，附着力助剂电镀面数据表面的一些离子键断裂，导致小分子产物或氧化成一氧化碳。一氧化碳:等。这些产品被空气提取过程吸走，使数据外观不均匀，提高表面粗糙度。低温等离子体清洗机表面活化低温等离子体处理后，耐火塑料制品表面发现了一些特定的原子、自由基和不饱和键。这些特异官能团与等离子体中的特异粒子接触，会发生反应，产生新的特异官能团。
微波能量和磁场强度是电子回旋共振等离子体刻蚀室的两个重要调节参数。等离子体密度可以通过微波能量来确定，附着力助剂电镀面等离子体产生区与晶圆之间的距离可以通过调节磁场强度来调节，即磁场强度为875G的电子共振区位置。可以改变离子的能量分布和入射角分布。低压是等离子体的发展方向之一。在较低的压力下，离子在轰击到晶圆之前碰撞更少，从而减少散射碰撞，优化离子入射角，获得更准确的刻蚀结果。
附着力助剂电镀面
