新型真空电浆清洗机具有性能稳定，新载玻片亲水性处理性价比高，操作简单，使用成本极低，易维护等特点。超研磨改性金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等具有各种几何形状和不同表面粗糙度的物体表面，完全去除样品表面所有的有机污染物。 真空电浆清洗机能清洗半导体元件：光学元件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜衬底、端子装置等。同时，它也能清洗光学镜头：清洗各种透镜和载玻片，例如光学镜头和电子显微镜载玻片。
等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子蚀刻、icp、晶圆到橡胶涂层、icp、灰化活化和等离子表面处理等。通过等离子表面处理的优点，载玻片亲水性可以提高表面润湿能力，使各种材料可以进行涂覆、电镀等操作，增强粘接强度和结合力，还可以去除有机污染物、油污或润滑脂。用于光学器件、电子元器件、半导体元器件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的过清洗。用于光学透镜、电子显微镜等透镜和载玻片的清洗。
在其他方面，载玻片亲水性等离子发生器的选择、功率尺寸设置、真空室尺寸和电极结构设计也有助于改善散热问题。。等离子清洗机适用范围： * 电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基板、芯片的清洗。 * 光学镜头、电子显微镜胶片、其他镜头和载玻片的清洁。 * 去除光学零件、半导体零件等表面的光刻胶。 * ATR元件、各种形状的人造水晶、天然水晶、宝石的清洗。 * 半导体零件和印刷电路板的清洗。 * 生物芯片和微流控芯片的清洁。
等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、...
