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点胶前用 等离子体发生器清洗可以实现: 将等离子体发生器应用于半导体硅片清洗工艺中,具有工艺简单、操作方便、无废料处理及环境污染等问题。然而,它难以清除碳、及其其他非挥发物金属材料或金属氧化物杂质。 等离子体发生器清洗常见于光刻技术的脱除环节中,在等离子体反应系统中植入少许氧气,在强电场作用下,使氧形成等离子体,快速将光刻技术被氧化成可挥发物气体状态物质。

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材料、等离子清洗以及后续的键合,大大提高了键合线的键合强度和拉力的...

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