除了半导体材料有关的清理用途外，钾钙钠有亲水性吗深圳 _等离子清洗设备在其他的各类各个领域也都是有广泛运用，如与生物学、医药学有关的微处理芯片抗压强度和过流道亲水性的提升，眼镜片喷涂前的加工处理，石棉分析前的加工处理，复合材料黏合抗压强度的提升，液晶屏黏合抗压强度的提升等。 _等离子清洗机主要的应用目地：1.复合材料表层官能基黏合性，粘合性提高。
在原子态O与C-H、C=C发生羰基化反应，钠有亲水性在大分子的键上添加极性基团，提高了大分子表面的亲水性。经过O2+CF4等离子体处理的刚挠印刷电路板，再用O2等离子体处理，不仅能提高孔壁的润湿性(亲水性)，而且能消除反应。终沉积物和反应不完全的中间产物。对刚挠印刷电路板采用等离子体法去钻污凹化处理，并进行了直接电镀后的金相分析和热应力试验，结果完全符合GJB962A-32标准。
关系等离子体设备的聚合参数包括：背景真空、工作压力、单体HMDSO与工作气氩的比值、电源、加工时间、工作温度等，钠有亲水性测量接触角时，0.1%的高锰酸钾溶液可以瞬间吸附在粉末压片表面而不经过加工，液滴可以稳定存在于粉末压片表面而不润湿粉末。放电时间越长，气体中单体浓度越高，电源越大，粉末接触角越大。这主要是因为粉末表面聚合形成的低表面能SiOx聚合物越多，表面疏水性越强。