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平均粗糙度和表面颗粒半径的减小增加了ITO与有机层的接触面,附着力急剧减小有利于氧原子的粘附。等离子体清洗设备能更好地改善ITO的表面形貌。同时可以看到,ITO表面的氧空穴明显增多,表面富集了一层带负电荷的氧,形成界面偶极层,增加了ITO的表面功函数,大大增强了ITO的空穴注入能力。此外,等离子体清洗设备处理后,ITO的表面粗糙度和ITO膜与NPB的界面能降低,空穴注入变得容易,与阴极注入的电子更好地复合产生激子。

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等离子体清洗机的双极脉冲可以在小电极间隙驱动和产生均匀放电等离子体,附着力急剧减小而短脉冲宽度有利于在大电极间隙常压下实现均匀放电。当脉宽为20ns时,在较大的电极间隙内可以产生均匀放电,但随着脉宽的增加,均匀放电逐渐减小。当电压脉冲宽度为200ns时,放电间隙出现明显的丝状放电通道,气体击穿模式转变为流击穿模式。

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