发射光在清洁金属表面过程中的作用：等离子体产生的同时发出光，什么矿物质对铜的附着力大光能量高，穿透力大，在光的作用下，金属表面污物分子发生了分子键断裂，这就有利于推动污染物分子进一步活化，使其去除在金属表面的脏污。总而言之，等离子表面处理机主要依靠等离子体中的电子、离子、激发态原子和自由基等活性离子的激活作用，逐步分解金属表面有机污染物的大分子，形成稳定的易挥发的简单小分子，将粘在表面的污物从表面完全分离出来。
可以推测在等离子体作用下，附着力大于等于4B催化剂可通过表面反应参与了甲烷的C-H键断裂过程。对CH4活化而言： 镧系催化剂与等离子体的共同作用活化CH能力存在差异，其共同作用能力大小顺序如下：Nd203/Y-Al203 > CeO2/Y-Al203 > Sm203/Y-Al203 > Pr2O11/Y-Al203 > La2O3/Y-Al2O3。
这主要是由于高能粒子在大功率和撞击作用下明显（显着）增加。它在材料的表面，附着力大于等于4B是样品的表面。它上面的一些活性基团失去活性，从而减少了活性基团的引入。如果释放压力大于 10 Pa 且小于 50 Pa，则对天线压力没有明显（明显）的干扰。但是，如果压力超过50Pa，接触角就会增加。认为这是因为高气压使气体难以完全电离，阻碍了PTFE表面的重整效果。
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