因此，含氢硅油附着力可以使用在线等离子清洗设备对硅油进行加工，改变硅油的结构。准备非晶 Si: C: O: H 薄膜。具有改性硅油或光致发光特性的非晶 Si:C:O:H 薄膜。在线等离子在洗衣机的等离子体中，放电产生处理硅油所必需的活性基团，可以控制因硅油冲击而产生的离子能量，将等离子体反应和离子冲击效应结合起来。 , 从而改变硅油的结构以获得光致发光性能。改性硅油或无定形Si：C：O：H薄膜。。
采用等离子清洗机清洗连接器基座，含氢硅油附着力可将硅油或脱模剂从连接器表面去除，全面提高产品表面洁净度，同时也可提高基座的面能，提高丝印字符的粘合、粘合可靠性，提高连接器的印刷与粘合效果。使用等离子清洗机处理连接器产品基座前后，在水滴角度上的变化，连接器基座的角度由121度改为50.8度，航空连接器基座由103.99度改为53.6度。
在制备这些薄膜时，改性含氢硅油附着力促进剂通常需要采用较高的沉积温度或较高的后处理温度，如热蒸发沉积a-SiC,O,薄膜的沉积温度高达800℃，融化-涂覆技术制备a-SiC,O,薄膜的烧结温度更是高达1300℃。当将发光材料应用于光电集成技术时，如此高的温度可能导致其他材料和器件的损伤，因此发展低温下制备非晶Si:C:0:H光发射材料的方法就变得非常重要。硅油是一种含Si、C、0、H组分的高分子材料。
一般认为，硅油附着力等离子体表面处理对材料的作用存在表面活化、交联和表面刻蚀等多种复杂过程，表面活化赋予材料表面自由基、极性基团，使润湿性改善，而交联和刻蚀使材料表面的活性物质减少影响润湿性改善。等离子体表面处理于材料表面的作用开始以活化为主，随着处理时间的增加，交联和刻蚀作用增加，影响了润湿性的进一步改善。等离子体表面处理时效性越长改性效果越稳定。
硅油附着力
电晕处理方法通常使用高频、高压电源在放电工具架和刀片之间的间隙中产生放电，产生低温等离子体区域并改性塑料薄膜材料的表面。在这个过程中，氧气也被电离产生臭氧。它氧化塑料薄膜的表面并将其从非极性转变为极性。此外，电子的冲击使薄膜表面变得粗糙，增加了表面的张力。电晕机价格便宜，普通电晕机只需几千元，可以解决大部分材料表面的印刷问题。
等离子表面改性为在进一步加工之前清洁和活化部件表面提供了一种经济的解决方案。达能科技提供等离子解决方案，提高塑料和橡胶部件的表面能，确保印刷油墨、油漆和粘合剂、材料等的良好附着力、涂层和灌封，以及塑料、橡胶和金属部件的表面清洁。等离子表面改性剂用于各种行业和越来越多的基材。不断增长的客户包括医疗、汽车零部件、电气设备、电缆、眼科和管道等行业。
清洁污染物和光刻胶是湿法化学清洁的环保替代方案。 1 基于化学反应的清洗基于表面化学的等离子清洗通常被称为等离子清洗PE。许多气体的等离子体状态可以产生高活性粒子。化学方程式表明，典型的 PE 工艺是氧或氢等离子体工艺。氧气等离子化学品可以将非挥发性有机物质转化为挥发性二氧化碳和水蒸气，以去除污染物。清洁表面。含氢等离子体可以去除金属表面的氧化层，通过化学反应清洁金属表面。
四氟化碳是1种无色无臭的混合气体，无毒性、不燃性，但在浓度较高的时形成麻痹功效，因此在工业生产运用时存储的器皿为专用型高压气瓶，所运用的调压阀也为专用型调压阀。四氟化碳在被等离子清洗电离后会形成含氢氟酸成份的蚀刻性气相等离子，能够对各类有机化学表层做到蚀刻及有机化合物清除，在晶圆制造、pcb线路板生产、太阳能发电光伏板生产等领域中被普遍使用。
含氢硅油附着力
经等离子清洗机电离后，改性含氢硅油附着力促进剂可产生含氢氟酸的刻蚀气体等离子体，可刻蚀、去除各种有机表面。广泛应用于晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业。真空等离子体清洗机产生的等离子体将四氟化气体电离成白色，肉眼观察类似于白雾，识别度高，易于与其他气体区分。光刻技术使用四氟化气来蚀刻硅片电路，等离子体清洗机使用四氟化气来去除氮化硅蚀刻和光刻胶。
