等离子清洗/蚀刻机通过在密闭容器中设置两个电极以产生电场并使用真空泵达到一定程度来产生等离子。随着气体越来越稀薄，不同金属附着力差异大小分子和离子的分子间距和自由运动距离越来越长，它们在电场的作用下相互碰撞，形成等离子体。这些离子非常活跃，它们的能量足以破坏几乎所有的化学键，从而在暴露的表面上引起化学反应。不同的气体等离子体具有不同的化学性质。
其主要过程包括:先将需要清洗的工件送入真空室固定,启动真空泵等装置开始抽真空排气到10Pa左右的真空度;接着向真空室引入等离子清洗用的气体(根据清洗材质的不同,选用的气体也不同,如氧气、氢气、氩气、氮气等),并将压力保持在 Pa左右;在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿,并通过辉光放电使其发生离子化,产生等离子体;在真空室内产生的等离子体完全覆盖被清洗工件后,开始清洗作业,清洗过程会持续几十秒到几分钟。
从正常能量发射：气体>液体>固体的角度来看，不同金属附着力差异大小等离子体的能量比气体高，而且能表现出普通气体所不具备的特性，因此也被称为物质的第四态。一般情况下，气体离子会形成电子-正离子结合。当它们回到中性分子状态时，这一过程中产生的电子和离子的部分能量以不同形式被消耗掉。例如，电磁波和分子解离常产生自由基，自由基产生电子与中性原子结合，分子产生负离子。因此，整个真空等离子体是电子正负离子、原子和自由基激发的原子混合态。
2.3(1)低温等离子体和高温等离子体的种类可以分为两类，不同金属附着力差异大小高温等离子体和低温等离子体，等离子体中粒子的温度实际上是不同的，与温度相关的粒子运动速度的运动质量,等离子体与钛离子温度,说,存在于电子温度Te和中性粒子,如原子、分子或原子与Tn的温度,对于Te大大高于Ti和Tn,即低压气体的场合体，此时气体的压力只有几百帕斯卡，当施加高频电压或直流电压时使电场，由于电子本身很小，电池的质量很容易得到，因此，可以获得平均数电子伏特的高能。
不同金属附着力差异大小
常见的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的超声等离子体、激发频率为13.56MHz的射频等离子体和激发频率为2.45GHz的微波等离子体。各种等离子体线的自偏压不同。超声等离子体的自偏压约为0V，射频等离子体的自偏压约为250V。微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏。三种等离子体的形成机制不同。超声等离子体的反应是物理反应，射频等离子体的反应是物理反应和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。
等离子清洗/蚀刻技术是对等离子特殊性能的一种具体应用。等离子清洗/蚀刻机通过在密闭容器中设置两个电极形成电场来产生等离子，并使用真空泵产生一定的真空度。它越来越薄，分子和离子的分子间距和自由运动距离越来越长。它与电场的作用相撞形成等离子体。这些离子非常活跃，其能量足以破坏几乎所有的化学键。暴露的表面会引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性质。
相对而言，干洗是指等离子清洗、气相清洗、束流清洗等不依赖化学试剂的清洗技术。由于工艺技术和使用条件的不同，市场上的清洗设备差异很大。目前市场上主要的清洗设备包括单晶片清洗设备、主动清洗站和洗涤器。从21世纪至今，主要的清洗设备是晶圆清洗设备、主动清洗站和洗涤器。单晶片清洗装置是一般采用旋转喷淋方式，用化学喷雾清洗单晶片的装置，与主动清洗站相比，清洗效率较低，生产能力也较低，但工艺非常昂贵。
相对而言，干洗是指不依赖化学试剂的清洗技能，包括等离子体清洗、气相清洗、束流清洗等。工艺技能和使用条件的差异使得市场上的清洗设备也有明显的差异化。现在市场上的初级清洗设备有单晶片清洗设备、主动清洗台和清洗机三种。在21世纪至今，单片清洗设备、主动清洗台、清洗机是主要的清洗设备。
不同金属附着力差异
就质量和体积而言，不同金属附着力差异等离子体是宇宙中可见物质存在的主要形式。恒星是由等离子体构成的，星际空间也充满了等离子体。这两种等离子体非常不同。恒星的核心是高温、高密度的等离子体，星际空间是薄薄的低温等离子体。地球上的人造等离子体也有同样的差异。有高温高密度等离子体和低温低密度等离子体。受控热核聚变反应堆是一种完全电离的高温高密度人造等离子体。
