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本发明的等离子清洗方法采用自动在线等离子清洗系统进行清洗,包括依次设置的装载区a、清洗区B、下料区C和装载平台1。在移动控制机构的控制下,装载平台1可在装载区域a、清洁区域B和下料区域C之间往复移动,在装载平台1上沿装载平台的长度方向间隔设置框架放置槽11,引线框架2可放置在框架放置槽11中。

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(1) 化学反应化学反应中常用的气体有H2、O2、CF4等。这种气体在等离子体中反应形成高度反应性的自由基,这些自由基会进一步与表面反应。其反应机理主要是利用金属材料表面存在的自由基,在高压下产生更多的自由基,从而使金属材料在高压下产生更多的自由基,需要控制更大的压力才能让反应进行。 (2) 物理反应等离子体中的离子主要用作纯物理撞击,以去除物体表面上的原子和沉积在物体表面上的原子。

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