微波等离子清洗设备与射频等离子清洗设备对比目前，等离子激励电源频率主要有四种：直流、低频、射频、微波。这几种是依据国际通信机构规定可以使用的频率。射频等离子清洗设备使用频率为13.56MHz，微波等离子清洗设备使用设备为2.45GHZ。
微波等离子清洗设备与射频等离子清洗设备对比
与射频等离子清洗设备的匹配性相比,微波等离子清洗设备的匹配性更加困难,主要由于微波反馈过程中,如果不能精确的进行负载调节,微波源将很容易造成损伤。所以说精确的匹配性调节是获得优良清洗效果的必要条件。微波源配备合适的匹配系统可以根据清洗腔体及产品等清洗条件的不同进行负载阻抗自动调节，使清洗效果及一致性达到最佳。
微波频率相对于射频有两个决定性优势，其一是离子浓度最高,在微波等离子里的反应微粒数量要远远大于在射频等离子里的反应等离子数量，这会使反应速度更快，反应时间更短。其二，等离子的一个自然特性是可以在直接暴露于等离子的基材上生成一种自偏压。这种自偏压要取决于等离子的激励频率,比如频率为2.45GHz的微波一般仅要求5-15伏,而在同样的情况下,射频等离子自偏压却要求100伏。
频率越高，等离子体离子密度越高；频率越高，自偏压越低。综上所述，相对于射频等离子清洗机，微波等离子清洗机的优点在于：（1）无内部电极，可避免放电污染，能量转换效率高，可产生大范围的高密度等离子体；（2）无损伤工艺，自偏压极小；（3）高电子密度，制备各种功能薄膜材料的速率较快；（4）离子冲击小，对器件的损伤小；（5）不产生紫外线辐射。正是因为具有以上优点，微波等离子在一些工艺中具有不可替代性，例如一些电敏感器件制程中的去胶和清洗。
以上就是国产等离子清洗机厂家关于微波等离子清洗设备与射频等离子清洗设备对比的简单介绍，由于激发频率高，离子动能小，化学等离子作用在微波等离子清洗设备中占主要部分，可以实现更均匀有效地清洗，在清洗中没有物理等离子体所产生的物理冲击和溅射现象，在高可靠性要求的器件尤其是军用器件生产工艺过程中，微波等离子清洗设备成为关键首选的设备。微波等离子清洗设备与射频等离子清洗设备对比00224436