电晕清洗工艺不需要化学试剂,电晕法处理塑料薄膜表面因此不会造成二次污染,且清洗设备重复性强,因此设备运行成本低,操作灵活简单,可实现金属表面整体或部分局部、复杂结构的清洗;电晕清洗后的某些表面性能也可得到改善,有利于后续金属加工应用。电晕主要依靠电晕中的电子、离子、激发态原子、自由基等活性离子,逐步分解金属表面有机污染物的大分子,最终产生稳定、易挥发、简单的小分子,最终将附着在表面的污垢彻底分离。

塑料薄膜电晕处理原理

同理,塑料薄膜电晕处理原理通过上述过程引入气体、电离、反应,表面改性成为亲水性或疏水性,便于下一步喷涂。3.电晕还有一种和热喷涂技术一起的喷涂技术,主要是直接喷涂大的金属表面,效率和效果都非常好。。电晕技术提高了复合材料多部分之间的结合性能;在某些应用中,需要通过粘结工艺将多个复合材料部件连接成一个整体。在此过程中,由于复合材料表面污垢、光滑或化学惰性,复合材料部件之间的粘接过程很难通过胶合来完成。

除气体分子、离子和电子外,塑料薄膜电晕处理原理其体内还存在电中性原子或原子团,受能的激发态激发形成自由基,并从中发光。其中,波与物质表面相互作用时,波的长度和能量起着重要作用。

显然,电晕法处理塑料薄膜表面热电晕不适合加工材料,因为地球上没有任何材料能承受热电晕的温度。与热电晕相比,低温电晕的温度仅在室温或略高,电子温度高于离子和原子温度,通常可达0.1~10电子伏特。鉴于气体压力低,电子和离子很少碰撞,因此不能达到热力学平衡。鉴于低温电晕的温度,可用于材料工业领域。通过辉光放电获得低温电晕:辉光放电应为低压放电,工作压力通常小于十毫巴。

塑料薄膜电晕处理原理

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由于电晕辉光放电是由真空紫外光产生的,对刻蚀速率有正向影响,气体中含有中性粒子、离子和电子。中性粒子具有与温度和电子能量相对应的较高温度,称为非平衡电晕和冷电晕。它们主要表现为电中性(准中性)气体的高自由基和离子活性,能量足以破坏所有化学键,在物质表面会表现出化学反应。通常电晕中粒子的能量是几十电子伏特。

低温电晕可将气体分子解离或分解为化学活性成分,与衬底固体表面反应生成挥发性物质,再由真空泵抽走。通常有四种材料必须蚀刻:硅(杂化硅或非杂化硅)、电介质(如SiO2或SiN)、金属(通常是铝和铜)和光刻胶。每种材料的化学性质不同。低温电晕刻蚀是一种各向异性刻蚀工艺,可以保证刻蚀图形的准确性、特定材料的选择性和刻蚀效果的均匀性。活性基团的电晕刻蚀和物理刻蚀同时发生。

3.真空电晕表面处理系统中电晕的种类根据温度的不同,可分为高温电晕和低温电晕两种。根据电晕产生所用气体的化学性质不同,从气体活性程度的角度可将电晕分为活性气体电晕和惰性气体电晕。4.电晕对物体表面的作用真空电晕表面处理系统的电晕中,除了气体分子、离子和电子外,还存在由电晕发出的能量和光激发的电中性原子或原子团(也称自由基)。

相信有朋友注意到了,在电晕清洗设备辉光放电过程中,真空室有时会呈现出不同颜色的工作环境,这主要是由于引入的气体不同造成的。电晕使用的工艺气体不同,电离后形成的电晕颜色也不同。常见的工艺气体有氩气、氧气、氮气、二氧化碳等,电晕清洗设备引入不同的工艺气体时,也可称为氩电晕和氧电晕…&Hellip;诸如此类。

塑料薄膜电晕处理原理

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