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工作时，清洗腔内的等离子体轻轻冲刷被清洗物体表面，经过短时间的清洗，有机污染物就能被彻底清洗干净。同时通过真空泵将污染物抽走，清洁程度达到分子级。等离子体清洗剂不仅具有超清洗功能，在特定条件下还可以根据需要改变某些材料的表面性质。等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键重新结合，形成新的表面特性。等离子体吸尘器的辉光放电不仅增强了某些特殊材料的粘附性、相容性和润湿性，而且对某些特殊材料具有消毒杀菌作用。
电感耦合等离子体中的电子绕磁力线运动，比电容耦合机中的自由程大，能在较低的压力下激发等离子体。等离子体密度比电容耦合等离子体高约两个数量级，电离率可达1%～5%。等离子体的直流电位和离子轰击能量约为20～40V。与电容耦合等离子体相比较；ICP的离子通量和离子能量可独立控制。为了更好地控制离子轰击能量，通常将另一个RF电源电容耦合到放置衬底的晶圆上。
它的激发氧原子比普通氧原子更活跃，能氧化污染润滑油和硬脂酸中的碳氢化合物，将其转化为二氧化碳气体和水。同时，等离子清洗机的射流还具有机械冲击力，起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物快速从玻璃表面分离出来，实现高效清洗效果。离子清洗机清洗玻璃表面层，除了机械作用外，主要是等离子体中活性氧、激发态Ar和氧分子被激发与氧分子碰撞而分解的化学作用。激发态氧原子在润滑剂和硬脂酸之间被污染。
因此，今年以来，我国半导体行业新创企业数量激增，以芯片设计公司为例，近期统计数据显示，截至2020年底，我国芯片设计企业已超过1万家，其中2020年前8个月转投芯片行业的企业多达9335家。市场预计，未来5年我国半导体总投资将达到9.5万亿元，资本市场将重新活跃起来。
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