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2.在线式和手拉门式真空等离子清洗机真空泵控制方式 真空等离子清洗机属在线式的和手拉门式的很为常见，等离子体刻蚀及其在大规模集成电路制造中的应用所使用的真空泵有一个泵的也有两个泵的，都是通过触摸屏进行操作控制，控制模式分手动控制和自动控制。 2-1手动控制方式 手动控制的原理和上述实验性的真空等离子清洗机的基本类似，按下相应的按钮即真空泵开启，不同之处在于一个是通过硬件按钮操控，一个是通过触摸屏里面的虚拟按钮操控。
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等离子体刻蚀及其在大规模集成电路制造中的应用
材料表面的物理和化学性质。它的物理和化学性质不改变。这些优势使低温等离子技术成为提高复合材料界面结合效果的重要工具。低温等离子表面处理技术对碳纤维表面处理效果明显。在碳纤维表面形成极性官能团的效果与阳极氧化碳纤维表面处理的效果相当。低温等离子蚀刻效果碳纤维表面优于阳极氧化碳纤维，表面处理效果明显。。
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等离子清洗机（Plasma Cleaner）又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。
大粒径污渍粘附在腔壁、电极和支架上。腔壁上有一层“灰”，腔底脱落严重。 2.电极和托盘支架的维护和翻新：长期使用后，电极和电极上会附着一层氧化层，碳氢化合物基材料经过等离子体处理。在托盘支架和电极上放置一段时间后，射频导电棒上会积聚一层薄薄的碳氢化合物残留物，这些残留物和氧化层无法用酒精去除。焊条和托盘的维修保养应根据附件的数量来保证去胶的稳定性。清洗剂要求：氢氧化钠、硫酸、自来水、蒸馏水。
等离子体刻蚀及其在大规模集成电路制造中的应用
压缩机也被称为“第二动力源”，等离子体刻蚀及其在大规模集成电路制造中的应用是一种多用途的过程性气源；用于工业的瓶装压缩气体通常盛装在管制气瓶中，盛装的气体压力一般为13-15MPa，其优点是节省空间、安全和方便运输。在气体调压方式和plasma等离子去胶机使用方法上也有一些小技巧。控制气压对plasma等离子去胶机的正常运行非常重要，常见的气体减压方式有气瓶减压阀、气动调压阀和管道节流阀。
plasma等离子清洗机等离子清洗机应用环境：在等离子设备中使用正确的气体以获得所需的粘合性或印刷性非常重要。 有丰富的等离子活化项目经验，等离子体 去胶可为不同材料的客户提供优质服务。氢被用在聚四氟乙烯产品中，而氮通常是混合在一起形成氢氮的特殊混合。塑胶产品经常使用氧气。在处理金属时，我们通常加入氩气以防止氧化。在plasma等离子清洗机等离子体表面改性中，常采用氧和氩。
