紫外线辐射破坏污染物，电晕处理机跳闸等离子体处理每秒只能穿透几纳米，污染层不厚。指纹也适用。2.等离子清洗设备的氧化物去除这个过程涉及氢或氢和氩的化合物的使用。有时也可以采用两步法。首先将表层氧化5分钟，然后用氢和氩化合物去除。各种气体也可以同时处理。3.等离子清洗设备焊接一般情况下，焊接印刷电路板前应使用化学药品。焊接后必须用等离子法去除这些化学物质，否则会导致腐蚀等问题。
相对于UV生产涂膜和开胶产品更好，电晕处理机跳闸但小盒子产品不能用贴膜谋生的方法，切齿线会出现工艺问题，增加切板成本等等。而低温常压等离子技术很好地解决了上述矛盾，既不需要打磨，也不需要在产品表面画齿线，在条件允许的情况下还可以使用低成本的胶水，可以有效解决传统贴盒工艺中的几大难题：1.纸粉和纸毛对环境和设备的影响；2.磨削影响工作效率；3.产品会开胶；四是贴盒成本高。
（3）链转移反应：H+C2H6&RARR；C2H5+H2(3-29)CH3+C2H6&RARR；C2H5+CH4(3-30)CH3+E*&Rarr；CH2+H(3-31)CH2+E*&Rarr；CH+H(3-32)CH+E*&RARR；C+H(3-33)（4）链终止反应：CH3+H&RARR；CH4(3-34)CH2+CH2&RARR；C2H4(3-35)CH3+CH&Rarr；C2H4（3-36）CH+CH&RARR；C2H2(3-37)低温常压下，电晕处理机跳闸纯乙烷在等离子体体的作用下可以脱氢生成乙炔、乙烯、少量甲烷和积碳，但也存在转化率低、反应器壁积碳等问题。
等离子体中电子的温度可以达到几千K到几万K，电晕处理机跳闸而气体的温度很低，大约是室温到几百摄氏度，电子的能量大约是几伏到十伏。这个能量比高分子材料的成键能高出几到十电子伏特。-真空等离子体清洗机可以完全破坏有机大分子的化学键形成新的键；但它比高能射线低得多，而且只影响材料表面，因此不会影响其性质。
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等离子表面清洗在这类生产过程中变得越来越关键，从彩色滤光片、支撑架、电路板焊锡层表层去除有机化学污染物，对各种原材料表层进行活化粗化处理，以不断改善支撑架与彩色滤光片之间的粘附特性，提高布线稳定性，提高智能手机模组合格率。等离子表面清洗技术广泛应用于移动设备摄影模组：事实上，等离子表面清洗技术广泛应用于手机摄影模组，可加工产品有很多，如滤镜、支架、电路板垫等，其加工效果与红外截止滤镜相同。
无电弧，无真空室，无有害气体吸入系统，长期使用不会对操作人员造成身体伤害。大气压辉光等离子体技术。采用RF射频作为激励电源，工作频率为13.56MHz。选择氩（Ar）为发生气体，氧气或氮气为反应气体。等离子清洗机的优点：主要分为两种方式，即空腔式和常压式，而这两种等离子技巧都是直接等离子。空腔等离子体的特点是需要一个封闭的空腔，电极建在真空空腔内。
两类等离子体各有特点和应用（见等离子体的工业应用）。气体放电分为直流放电和交流放电。例如，在高频电场中处于低压状态的氧气、氮气、甲烷、水蒸气等气体分子，在辉光放电条件下，可以分解成加速的原子和分子，从而产生电子，解离成带正负电荷的原子和分子。产生的电子在电场中加速时获得高能量，并且当它与周围的分子或原子碰撞时，其结果是电子在分子和原子中被激发，它处于激发态或离子态。此时，物质存在的状态是等离子体状态。
在半导体封装领域，通常采用真空等离子体处理系统，随着设备的不断吸尘，真空室内的真空度不断提高，分子间的距离变大，分子间作用力越来越小，Ar、H2、N2、O2、CF4等工艺气体被等离子体清洗设备的等离子体发生器产生的高压交变电场激发，使其变为高反应性或高能量的等离子体，从而与半导体器件表面的有机污染物和微粒子反应，生成挥发性物质，通过真空泵抽出，达到清洗、活化、刻蚀的目的。。
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