在实际的等离子体表面激活器中，电晕处理机没有输出阴极和阳极之间的电弧放电使流入的工作气体电离，输出的等离子体呈射流状，可用于等离子体射流（大气压射流等离子体、等离子射流等），此外，几百帕以下的低压等离子体表面激活器通常处于非热力循环状态，与离子或中性粒子碰撞时，电子几乎不损失能量，因此具有Te>>Ti、Ti>>Tn。低温等离子体称为低温等离子体。
模拟输入正负极采用单芯1方绿色软线，电晕处理与等离子的效果模拟输出采用单芯1方黄色软线为了保证采集到的信号不受外界干扰，需要使用具有屏蔽性能的屏蔽线。4低压真空等离子体清洗机高频电路低压真空等离子体清洗机高频高压放电需要使用专用高频电缆，电缆采用高纯无氧镀铜银工艺，具有传输信号稳定、传输速率高、绝缘耐高温、韧性高、双层屏蔽抗干扰能力强等优点。如果使用质量较差的高频电缆，会影响设备的放电效率。
例如，电晕处理与等离子的效果氧等离子体氧化性高，可氧化光刻胶产生气体，从而达到清洗效果；腐蚀气体的等离子体具有良好的各向异性，可以满足刻蚀的需要。等离子体处理会发出辉光，故称辉光放电处理。等离子体处理的机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。
有几种情况：A.电容封装会导致寄生电感；B、电容会带来一定的等效电阻；C、电源引脚与去耦电容之间的导线会带来一定的等效电感；D、地脚和地平面之间的导线会带来一定的等效电感。产生的效果：a.电容会在特定频率上引起谐振效应以及由此产生的网络阻抗对相邻频段的信号产生较大影响；b.等效电阻(ESR)也会影响解耦高速噪声形成的低电阻路径。
电晕处理与等离子的效果
利用胶原侧链氨基的反应活性，通过与胶原侧链氨基的反应引入羰基、羧基、羟基等活性基团，是增加胶原侧链羧基的有效手段。也可以引入醛基，因为醛基与胶原蛋白的氨基发生反应，可以增加胶原蛋白侧链中羧基的数量。这样，在保证皮革质量的前提下，生产过程中最大限度地提高了锆、铝、钛等无铬金属的利用率，从而达到无铬鞣制和高吸收清洁鞣制工艺的效果。
目前，CO2一步氧化CH4制C2烃的反应机理是CO2在等离子体作用下分解生成CO和激发亚稳态活性氧，这些活性氧在甲烷氧化偶联反应中非常活跃。
真空等离子体清洗机的工作过程；真空等离子体清洗机包括反应室、电源和真空泵组。当样品放入反应室时，真空泵开始抽气造成一定程度的真空。当电源启动时，产生等离子体，然后将气体引入反应室，使室中的等离子体成为反应等离子体。这些等离子体与样品表面反应产生挥发性副产物，由真空泵抽出。真空等离子体清洗机在医学领域的应用；1.导尿管的处理导尿管给需要留置导尿管的患者带来福音，临床应用越来越广泛。
离子轰击破坏清洁后的表面，削弱化学键，形成原子态，容易吸收反射体。正离子碰撞加热被清洗的物体，容易反射。。常用的等离子体激励频率有三种：激励频率为40kHz的超声等离子体、激励频率为13.56MHz的射频等离子体和激励频率为2.45GHz的微波等离子体。
电晕处理与等离子的效果
在集成电路制造工艺中，电晕处理与等离子的效果由充电效应引起的栅氧化层退化是一个严重的问题。引起PID的主要机理如下：（1）等离子体密度。更高的等离子体密度意味着更大的电流。在电荷诱导损伤模型下，较高的等离子体密度更容易产生PID问题。克里希南等人。发现ICP金属刻蚀反应室高度由8cm降低到5cm，晶片表面电场强度显著增强。等离子体密度的增加导致电荷充电，造成严重的器件损伤。（2）等离子体局部不均匀性。
产生的激发态氧原子比普通氧原子活性更强，电晕处理机没有输出能氧化污染润滑油和硬脂酸中的碳氢化合物，生成二氧化碳和水。同时，等离子射流还具有机械冲击力，起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物迅速从玻璃表面分离出来，达到高（高效）清洗的目的。除机械作用外，等离子体清洗机主要是活性氧物种的化学作用。等离子体中Ar*的激发态激发氧分子进入激发状态态氧原子的高能电子撞击氧分子使其分解，形成被激发态氧原子污染的润滑油和硬脂酸。
