等离子体的杀菌和灭菌特性使等离子体应用于生物材料设备制造或外科手术成为可能。与电子束灭菌相比，影响电晕处理效果的原因等离子灭菌成本较低；与环氧乙烷灭菌相比，等离子灭菌毒性较低。此外，等离子灭菌是在常温下进行的，因此材料不会受到蒸汽灭菌引起的热和水解的影响。因此，等离子灭菌更适用于热或辐射敏感材料。
在线等离子体清洗机中，影响电晕处理效果的原因将两个电极置于密封容器中形成电场，使真空泵达到一定的真空度，气体越来越稀薄，分子之间的距离越大，分子与离子的距离越远，在电场的影响下，它们会相互碰撞，形成高效的在线等离子体清洗机，其能量足以破坏所有化学键，任何暴露表面都可以发生化学反应；不同气体的等离子体具有很强的氧化性能，如氧离子，可以将其氧化成气体，具有清洁度。气体等离子体具有良好的各向异性，满足腐蚀要求。
等离子体清洗技术对工业经济和人类文明的影响最大，电晕处理打开就是六个率先推动电子信息产业，特别是半导体产业和光电产业。等离子清洗机已用于各种电子元器件的制造。我们可以肯定，没有等离子清洗机及其清洗技术，就没有今天如此发达的电子信息通信产业。
例如，电晕处理打开就是六个氧等离子体的形成过程可用以下六个反应方程式表示：第一个方程表示氧分子获得外部能量后变成氧阳离子并释放自由电子的过程，第二个方程表示氧分子获得外部能量后分解成两个氧原子自由基的过程。第三个方程表示存在下列物质时的氧分子高能量的受激自由电子被转换成激发态。第四和第五反应表明激发的氧分子发生了进一步的转变。在第四个反应中，氧气使大脑饥饿以恢复正常状态，并发射光能（紫外线）。
影响电晕处理效果的原因
氧等离子体的形成过程可用以下六个反应方程式表示：O2-O2+e(1)O2-2O(2)O2+E-O2+E(3)O2+E-O2+hv+e(4)O2+E-2O+e(5)O2+e--O+O++2E(6)第一个方程表示氧分子获得外部能量后变成氧阳离子，释放自由电子的过程。第二个方程表示氧分子获得外部能量后分解形成两个氧原子自由基的过程。第三个方程表明氧分子在高能激发自由电子的作用下转变为激发态。
离子的能量分布和入射角分布是可以改变的。低压是等离子体的发展方向之一。在较低的压力下，离子轰击晶圆前的碰撞会减少，进而减少散射碰撞，可以优化离子入射角度，获得更精确的刻蚀结果。4.远程等离子刻蚀机：等离子体的主要成分包括工会化气体分子、带电离子、电子和各种自由基。在与图案转移相关的传统蚀刻工艺中，带电离子体中的各种成分都很重要。
一方面，当各种活性颗粒与被清洗物体表面相互接触时，各种活性颗粒会与物体表面的杂质、污垢发生反应，形成挥发性气体等物质，然后挥发性物质被真空泵吸走。例如，活性氧等离子体与材料表面的有机物反应。另一方面，各种活性颗粒会轰击清洗物料表面，使物料表面的污染杂质随气流实现空泵抽吸。这种清洗方法不发生化学反应，被清洗材料表面不留氧化物，可以很好地保留被清洗材料的纯度，保证材料的各向异性。
通常情况下，物质以固态、液态和气态三种状态存在，但在一些特殊情况下，可以以第四种状态存在，如太阳表面的物质、地球大气层电离层的物质等。这类物质处于一种叫做等离子体态的状态，也称为物质的第四态。等离子体中存在下列物质；高速运动的电子；处于激发态的中性原子、分子和原子团（自由基）；电离原子和分子；分子解离反应过程中产生的紫外线；未反应的分子、原子等，但物质作为一个整体保持电中性。
电晕处理打开就是六个
可以利用四氟化甲烷、六氟化硫、氟碳化合物等氟化物诱导表面结构中的氢原子被氟原子取代，电晕处理打开就是六个形成类似聚四氟乙烯的结构，从而使材料表面疏水、化学惰性和化学高度稳定。血浆表面修饰的另一个重要应用是促进细胞生长或蛋白质结合以减少血栓形成。氟化聚四氟乙烯涂层和从有机硅单体中提取的类似有机硅涂层是血液相容的。膜中的氟碳比、润湿性和存在形式明显与纤维蛋白原的吸收和储存密切相关。
等离子体表面活化/清洗；2.等离子体处理后的粘接；3.等离子体刻蚀/活化；4.等离子脱胶；5.等离子涂层（亲水性、疏水性）；6.增强结合；7.等离子涂层；8.等离子体灰化和表面改性。通过等离子清洗机的处理，影响电晕处理效果的原因可以提高材料表面的润湿性，对各种材料进行涂层和电镀，增强附着力和结合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。
