等离子表面处理机理 运用等离子体对材料表面进行物理化学反应的处理,下列亲水性强的树脂薄膜是高频高压在产生低温等离子体,使材料表面产生游离基反应而与聚合物产生交联,让材料表面粗糙度提高并增加其对极性溶剂的润湿性,提高附着力及亲水性,让承印物的表面具有更高的附着力。这些等离子体轰击和渗透进入被处理表面破坏其分子结构,进而将被处理表面分子进行反应,达到表面处理的效果,增加材料表面的附着力。

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用不同的等离子体对硅片表面进行处理,下列亲水性强的树脂薄膜是可以改变硅片表面的亲水性和吸附性能。等离子体表面激发技术只能改变芯片的表面层,但不能改变材料本身的性能,包括机械、电气和机械性能。此外,等离子体处理具有无污染、工艺简单、快速高效的特点。通过多次实验,得到了使用氧气和氩气的具体处理方案,并且在后期的键合过程中都取得了成功。

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