根据市场对半导体材料的估算，附着力特好的黑漆对于月产10万片晶圆的20nm DARM工厂来说，产量下降1%，将导致每年3000万至5000万美国元的利润减少，而逻辑芯片制造商的损失则更高。此外，产量下降还将使制造商本已很高的资本支出增加十分点。因此，工艺的优化和控制是半导体材料生产过程中最重要的部分，制造商对半导体行业的要求也越来越高，尤其是清洗工艺。对于20nm以上的区域，清洗工序数量超过所有工艺工序的30%。
因此，附着力特种功能助剂加工厂大气射流等离子体清洗机的正常运行对每个工厂的UPH（生产能力）起着决定性的作用。空气喷射等离子清洗机一旦出现故障，如果不能及时排除，将给企业带来巨大的经济损失。与真空等离子体清洗机相比，常压等离子体清洗机的机械结构相对简单。为了保证生产效率，操作人员必须具备一定的操作能力。
对于模块工厂来说，附着力特好的黑漆虽然传统制造工艺中使用的不同工艺可以完成相同的工作，但笔者认为最终的目标应该是通过制造工艺的持续改进来实现整体产品良率的提高。。
一些非高分子无机气体（Ar2、N2、H2、O2等）在高频低压下被激发，附着力特种功能助剂加工厂产生含有离子、激发分子、自由基等的各种活性粒子。一般来说，在等离子清洗中，活性气体可以分为两类。一种是惰性气体（Ar2、N2 等）的等离子体，另一种是反应气体（O2、H2 等）的等离子体。。
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在这种情况下的等离子处理会产生以下效果：1.1灰化表面有机层－表面会受到化学轰击（氧 下图）－在真空和瞬时高温状态下，污染物部分蒸发－污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空带出－紫外辐射破坏污染物因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度，所以污染层不能太厚。指纹也适用。1.2氧化物去除金属氧化物会与处理气体发生化学反应（下图）这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合物。有时也采用两步处理工艺。
直流(DC)放电由于其简单性至今仍被使用，尤其是对于工业大气等离子体清洗装置，可以发挥很大的功率。低频放电的范围一般为1-kHz，现在器件常用的频率为40kHz。目前，常压等离子体清洁器比高频放电装置更广泛地应用于实验设备和等离子体过程设备中，其频率范围为10～MHz。因为这属于无线电波频谱范围，所以也被称为射频放电，简称RF放电，常用频率为13.56MHz。
等离子体清洗机就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，从而达到清洗目的。等离子清洗机所生产的等离子“活性”部件包括:离子、电子、活性基团、激发态核素(亚稳态)、光子等。
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