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现在很多人都认为中国的国际先进的高铁都是造出来的,让我们的大c919飞机也成功投入运行我们造的小芯片,也不是二奶,也不是想象中那么简单的芯片生产技能,我国早期由于贫穷落后,在半导体芯片的研究领域落后,芯片生产更关键的设备是蚀刻设备,我国想要自主生产芯片等离子蚀刻机是我们首先要有的,不能无米之炊。

等离子体技术应用的优点(传统的工艺相比较): 1 不会改变基体固有性能,改性作用仅仅发生在表面,约几到几十个纳(米)。如半导体纳(米)蚀刻。 2 全程干燥的处理方式(干式法) ,无需溶解剂和水,几乎不产生污染,因而节约能源,降(低)成本。 3 作用时间短,反应速率高,加工对象广,能显著提高产品质量。 4 工艺简单、操作方便,生产可控性强,产品一致性好。 5 属于健康型工艺,对操作人员身体无伤害。

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“低温等离子体技术可以去除环境中的各种污染物,行驶阻力大附着力减小语音具有经济、实用、简单、无二次污染的优点。利用该技术处理污水是当前的研究热点之一。黄青告诉记者。对于巢湖蓝藻的控制,黄青课题组多年来一直关注,新的尝试是利用等离子体。等离子体放电产生带正电荷的离子和带负电荷的电子,其能量可达数千电子伏。它们与水分子的碰撞能产生活性氧和自由基,并伴有紫外线,能氧化和降解水中多种有毒有害物质,是一种高(级)氧化水处理技术。

对于频率为2.45GHz的微波能量,电子回旋共振的磁场强度为875G(高斯)。在电子回旋共振等离子体蚀刻腔室中,微波能量以及磁场强度是电 子回旋共振等离子体蚀刻腔室的两个重要的调控参数。微波能量的大小可以决定等离子体密度,磁场强度的调节,附着力减小会咋样即调节磁场强度为875G的电子共振区域位置,就可以调节等离子体产生区域与晶圆的距离。可以改变离子的能量分布与入射角度分布。低气压是等离子体发展方向之一。