从能给人类带来无限清洁力量的可控聚变,薄膜表面电晕处理机到色彩斑斓的日光灯,以及芯片制造业不可或缺的刻蚀机……电晕技艺经过几十年的发展,其奇特的“魔力”越来越惊人,但我国在电晕产业应用方面仍缺乏热度。电晕是物质的第四种状态,不同于固体、液体和气体。物质由分子组成,分子由原子组成,原子由带正电荷的原子核和周围带负电荷的电子组成。
但从环境影响、原料消耗和未来发展来看,塑料薄膜表面电晕处理机干洗明显优于湿洗。电晕清洗发展迅速,在干洗方面优势明显。电晕清洗逐渐广泛应用于半导体制造、微电子封装、精密机械等行业。2.电晕的机理电晕是一种部分电离的气体,是固体、液体和气体之外的第四种物质状态。电晕由电子、离子、自由基、光子和其他中性粒子组成。由于电晕中电子、离子、自由基等活性离子的存在,容易与固体表面发生反应。
这些颗粒极易与产品表面的污染物发生反应,塑料薄膜表面电晕处理机最终形成二氧化碳和水蒸气排出,以增加表面粗糙度,清洁表面。真空电晕经过清洗反应后,会与材料表面的污染物发生反应,形成细小颗粒或水分子。这些物质必须在第一时间排出,以免对物料表面造成二次污染。电晕可以形成自由基清除产品表面的有机污染物,活化产品表面,旨在提高产品的附着力和表面附着力的可靠性和耐久性。
随着半导体工艺的发展,薄膜表面电晕处理机由于其固有的局限性,湿法刻蚀逐渐限制了其发展,因为它已经不能满足微米甚至纳米级微细导线的超大规模集成电路的加工要求。晶圆电晕刻蚀机干法刻蚀因其离子密度高、刻蚀均匀、表面光洁度高等优点,在半导体加工工艺中得到了广泛的应用。电晕刻蚀机是一种多功能的电晕设备,可配置不同部件,如表面电镀、刻蚀、电晕化学反应、粉末电晕处理等。电晕刻蚀机对晶圆具有良好的刻蚀效果。
薄膜表面电晕处理机
通常情况下,物质以固态、液态和气态三种状态存在,但在某些特殊情况下,还存在第四种状态,比如地球大气中电离层中的物质。处于电晕状态的物质有以下几种:高速运动的电子;处于活化状态的中性原子、分子和原子团(自由基);电离原子和分子;未反应的分子、原子等,但物质作为一个整体保持电中性。电晕的机理主要取决于电晕中活性粒子的“激活”达到去除物体表面污渍的目的。
塑料薄膜表面电晕处理机