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3、附着力3A级（测喷涂附着力3m胶型号）附着力30mpa 等离子清洗机，附着力3A级晶圆晶片去除光刻胶等离子体清洗机预处理晶圆的残留光刻胶和BCB、图案介电层的重新分布、线/光刻胶蚀刻、提高晶圆材料表面的附着力、去除多余的塑封材料/环氧树脂等有机污染物、提高金钎料凸点的附着力、降低晶圆压破、提高旋涂膜的附着力、半导体行业等离子体清洗机清洗晶圆、去除光刻胶残...
