对于一些特殊用途的材料，介质蚀刻等离子清洗机在超级清洗的过程中，不仅加强了这些材料的附着力、相容性和渗透性，还提高了状态的质量。等离子体清洗剂可以修饰各种表面。等离子清洗机的表面改性作用:材料表面的功能分子基团，高分子材料的表面改性;去除表面残留的微生物．。等离子体清洗机的应用包括预处理、晶圆点蚀、灰化/光刻胶/聚合物剥离、介质蚀刻、静电消除、有机污染物去除、晶圆减压等。
偏置侧壁过窄会导致高重叠电容，介质蚀刻恶化短通道效应。偏置侧壁过宽，会使重叠电容变小，会导致驱动电流下降。同时，延时随着偏置侧壁宽度的增加而减小，但当偏置侧壁宽度达到一定规模后，延时变大。因此，应仔细优化偏置侧壁的宽度，以确保设备的最佳性能。在90nm之前的工艺中，电容耦合等离子体(CCP)介质蚀刻机主要用于刻蚀偏置侧壁。该装置为高压下工作的低密度等离子体装置，腐蚀均匀性和工艺稳定性相对较差。
在大气等离子清洗机后期等离子介质蚀刻后的清洗过程中，介质蚀刻工业上常用的一种方法是使用水溶性多组分有机混合物。后来的等离子蚀刻污染和清洗技术可以在清洗过程中通过一种水溶性多组分有机物混合物(溶液A)从通孔和通道中去除残留的硅、碳、铜和其他副产物。铜丝经大气等离子清洗机蚀刻后，其表面有部分电荷残留，在后续的溶液清洗过程中会造成严重的铜损耗。改变清洗液可以适当调整晶圆的静电残留。
真空等离子体清洗设备,通常用于真空吸盘,气体进入一个高度活跃的低温等离子体,特别是真空低压和高频电场作用下的低温镜头有很多种有机污染物和角膜形状镜面微反应,改变分子结构，介质蚀刻机和硅蚀刻机在一定条件下改变透镜表面的性质，以达到清洁消毒的目的。另外，由于所用的清洗介...
