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蚀刻速率相当高,刻蚀机龙头股但在图案复杂密集的区域,产生的副产物不易挥发,而且等离子蚀刻垫圈本身的等离子蚀刻气体聚合物非常重且容易。由于蚀刻停止现象发生在蚀刻图案的底部,图案的外观变差,因此需要进一步改进CH4和H2的气体组合,使其成为工业上适用的磷化铟蚀刻方法。有文献指出,以氯气为主要刻蚀气体的磷化铟低温刻蚀存在刻蚀速度很慢、在低温条件下副产物难以去除的问题。

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使用氯气蚀刻InP对温度非常敏感,国内刻蚀机龙头股,诺安持仓1000万股温度越高,蚀刻速度越快。但如果温度低,副产物多,不易挥发,所以如果蚀刻总量过大,由于副产物的浓缩作用,蚀刻就会停止(产品难InClx)。以CH4和H2为主要成分的低温刻蚀面临着刻蚀速度慢导致刻蚀停止的现象。因此,如何在低温下实现对InP材料的刻蚀是一个研究热点。一种更常见的方法是将传统的磷化铟蚀刻气体与另一种气体混合。新西兰卡洛塔报告了这方面的早期工作。

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