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此外,环氧附着力促进剂pet由于三维鳍片的存在,多晶硅栅顶部上方和顶部下方的刻蚀环境不同,因此为了形成理想的多晶硅栅剖面,通常将高选择性的软着陆步骤拆分成若干步骤,以优化等离子体表面处理器刻蚀过程中的多晶硅剖面。由于源极和漏极的外延直接形成在鳍片中,这意味着FinFET多晶硅刻蚀中的鳍片损耗与平面结构的衬底硅损耗相比并不是特别重要。

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这种电子在电磁场加速时获得高能量,硅胶粘环氧附着力如何并与周围分子相互作用或者原子碰撞重新激发分子和原子中的电子,这些电子本身处于被激发或离子状态,当物质的状态是等离子体时。等离子体中除了蒸气分子、离子和电子外,还有电中性原子或原子群,它们被一种电能激发,也称为自由基。等离子体以长长的带状发光。等离子体与材料表面相互作用时,电能起着重要作用。。

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