等离子体是物质的一种状态，金属蒸镀膜附着力的测定也称为物质的第四状态，不属于固液气体的三种一般状态。当向气体施加足够的能量以使其电离时，它就会变成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、原子、反应基团、激发核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗剂利用这些活性成分的特性对样品表面进行处理，达到清洗、镀膜等目的。
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这种电离气体由原子、分子、原子团、离子和电子组成。其作用于物体表面可实现物体的超净清洗、物体表面的活化、等离子表面处理和镀膜的蚀刻、精加工和表面处理。今天，金属蒸镀膜附着力的测定它被广泛用于许多需要清洗精密设备的行业。。在IC半导体制造领域，PLASMA等离子清洗机是芯片源离子注入、晶圆镀膜或低温等离子表面处理设备不可替代的成熟设备。
通常有四种材料必须进行刻蚀处理：硅（惨杂硅或非惨杂硅...
