此阶段常用的工艺主要是等离子清洗工艺。等离子处理工艺简单环保，亲水性二氧化硅 性能清洗效果（效果）明显（明显），对盲孔结构非常有效。等离子体身体清洁是指高活性（化学）等离子体在电场作用下的定向运动，与刺穿孔壁的污垢发生气体凝聚化学反应。同时，产生的气体产物和未反应的颗粒被气泵排出。清洗HDI板的盲孔时，等离子一般分为三个步骤。第一步是使用高纯度 N2 产生等离子体，同时预热印刷板以产生特定的聚合物材料。
在HDI板埋孔清洗过程中，亲水性二氧化硅 性能等离子体分为三个阶段：第一阶段用高纯N_2生成等离子体，同时预热印制板，使聚合物原料处于某种活(化)态；第2级O2.CF4作为原始气体，将O.F等离子体与丙烯酸酯、DPI、FR4、玻璃纤维等反應，以实行去钻污的目地；第三级以O2作为原始气体，等离子体与反應残留物共同净化了孔壁。 选用等离子体表面处理机清法，等离子体除了产生等离子体化学反应外，还与原料表面产生物理反应。
等离子清洗机在HDI线路板盲孔清洗过程中一般分为三个步骤，高纯水亲水性二氧化硅第一阶段采用高纯氮气产生等离子，同时预热印制板；使得大分子物质处于某种活性状态，而在第二阶段中，O_2.CF4作为原气混合生成O.F等离子，与丙烯酸PI.FR4.玻璃纤维等反应，在第三阶段以氧为原料气，以氧气为原料，产生的等离子和反应残渣保持气孔清洁。等离子清洗过程中，除产生等离子化学反应外，还会发生对材料表面的物理反应。
传统的磁存储器是通过外部电流产生的环形磁场改变自由层的磁化方向，亲水性二氧化硅 性能而STT (Spin Transfer Torque)磁存储器由于体积大，读写速度没有其他存储器的优势而被取代。所谓自旋转移矩，是指自旋极化电流通过纳米铁磁层时，铁磁层内原子...
