介质plasma清洗设备（介质plasma蚀刻设备）

在旋转半径较小的前电极附近，介质plasma清洗设备由于部分电场强度超过了蒸气体的电离场强度，蒸气体产生电离和激发，从而引起电晕放电。电晕产生时，电极附近可见光，并伴有唑唑声。等离子体电晕放电可以是一种相对稳定的放电方式，也可以是不均匀电场间隙穿透过程中的初始发展环节。等离子体介质阻挡放电(DBD)是一种将介质插入放电空间的不平衡蒸汽放电。它也称为介质阻挡电晕放电或无声放电。

当气体受到电磁力作用时，介质plasma蚀刻设备会产生等离子体介质，等离子体介质中含有离子、电子、中子、光子、自由基、亚稳态粒子和分子，并在室温下进行动态混合。经等离子体表面处理机处理后，化纤和织物的表层可在不影响其整体性能的情况下进行功能化处理。在电磁场的作用下，这些等离子体粒子沿人体织物表面梯度扩散，导致了各种通用的表面处理方法。

冷等离子体的电子温度为3电子温度与气体温度之比为10 ~，介质plasma蚀刻设备气体温度较低，如稀薄低压辉光放电等离子体、电晕放电等离子体、DBD介质阻挡放电等离子体等。三、按等离子体在状态上的分类按等离子体的状态可分为平衡等离子体和非平衡等离子体。平衡等离子体是一种具有较高的气体压力和与气体温度大致相等的电子温度的等离子体。如常压电弧放电等离子体和高频感应等离子体。

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非磁化的冷等离子体中的光波速度比真空中的光速高c。对于磁化冷等离子体，它是各向异性的，介电常数变为张量。正如其他各向异性介质中存在两种波一样，磁化冷等离子体中也存在两种波:普通波和异常波。当等离子体折射率n为0时，波被截止反射，当n→∞时，波与共振粒子相互作用并被粒子吸收。

等离子体处理具有较高的分辨率和保真度，有利于提高集成度和可靠性。等离子体沉积膜可以用等离子体聚合介质膜来保护电子元件，等离子体沉积膜可以保护电子电路和设备免受静电积聚造成的损坏，等离子体沉积膜也可以制成电容元件。

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