说了这么多，光固化单体附着力不知道对于等离子处理器清洗中的等离子有没有一个大致的认识。起源于20世纪初的等离子体处理器技术，随着高新技术的飞速发展，应用越来越广泛。等离子体处理器的清洗主要取决于等离子体中活性粒子的&ldquo；激活&rdquo；达到去除物体表面污渍的目的。
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脉冲电晕的技术特点是：采用窄脉冲高压电源供能，光固化单体附着力脉冲电压上升前沿极陡（上升时间几十到几百纳秒），峰值宽度也很窄（在几微秒以内）。在极端脉冲时间，电子被加速成高能电子，而其他质量较大的离子由于惯性大，在脉冲瞬间没有时间被加速，基本保持静止。因此，放电提供的能量多用于产生高能电子，具有较高的能量效率。
在等离子体状态下，附着力好的光固化单体电子和原子键释放的原子、中性原子、分子和离子以高能无序运动，但它们完全是中性的。高真空室中的气体分子被电能激发，加速后的电子相互碰撞，使原子和分子的最外层电子被激发而脱离轨道，从而产生反应性相对较高的离子和自由基产生.这样产生的离子和自由基在电场的作用下被加速并不断碰撞，与材料表面碰撞，在几微米的深度破坏和裂解分子间原有的键合方式。孔的形成精细的不规则性。
光固化单体附着力
反应室中的气态辉光放电包括离子、电子、自由基等活性物质的等离子体，通过扩散吸附到介质表面，与介质表面的原子发生化学反应，形成挥发性物质。同时，高能离子在一定的压力下对介质表面进行物理轰击和刻蚀，去除重沉积的反应产物和聚合物。通过化学和物理相互作用来完成介质层的蚀刻。
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