如此产生的电离气体叫做气体放电等离子体。大气等离子清洗机按所加电场的频率不同，不同金属附着力图片对比气体放电可以分为直流放电、低频放电、高频放电、微波放电等多种类型。直流（DC）放电因其简单易行，特别是对于工业大气等离子清洗机装置来说可以施加很大的功率至今仍被采用。低频放电的范围一般是1- kHz，现在装置常用的频率为40kHz。
40kHz的自偏压为 0V左右，不同金属附着力图片表13.56MHz自偏压为250V左右，20MHz的自偏压则更低，这三种激起频率的机制不同，40kHz产生的反响为物理反响，13.56MHz产生的反响既有物理反响又有化学反响，20MHz有物理反响但更首要的反响为化学反响，需求对资料进行活化、改性的要用13.56MHz或许20MHz的等离子体清洗40kHz的自偏压为 0V左右，13.56MHz自偏压为250V左右，20MHz的自偏压则更低，这三种激起频率的机制不同，40kHz产生的反响为物理反响，13.56MHz产生的反响既有物理反响又有化学反响，20MHz有物理反响但更首要的反响为化学反响，需求对资料进行活化、改性的要用13.56MHz或许20MHz的等离子体清洗。
与其他放电方式相比，不同金属附着力图片对比脉冲电晕还具有以下优点： (1) 脉冲电晕可以在较高的脉冲电压下工作，这与直流电晕不同，直流电晕倾向于在稍高的电压下转向火花放电。比直流电晕高几个数量级；（2）电晕面积大，高压作用下放电空间内电子密度高，空间电荷效应明显，因此反应中的电子分布区域趋于均匀，其活动空间也比DC Corona大得多。注意开关必须使用高压开关电源。
因此，不同金属附着力图片对比根据低温等离子清洗机所用气体的不同，可分为反应性低温等离子和非反应性低温等离子。。低温等离子清洗机可以进行材料的表面清洗、表面活化、表面蚀刻和表面沉积。 (PLASMA TECHNOLOGY 等离子清洗机) 1.低温等离子清洗机的表面清洗功能 等离子是物质的一种状态，也叫物质的第四态，不属于一般的固液气三态。当向气体施加足够的能量以使其电离时，它就会变成等离子体状态。
不同金属附着力图片对比
由于气体的性质不同，其用于清洁的污染物也须有不同的选择。如果一个气体渗透到另一个或更多个气体中，这些元素的混合气体就会产生我们所要的蚀刻和清洁效果。利用等离子体电浆中的离子或高活性原子，将表面污染物撞离或形成挥发性气体，经真空系统送出，达到表面清洁的目的。在高频电场中低气压状态下，气体分子，如氧、氮、甲烷、水蒸气等气体分子，在辉光放电的情况下，会分解加速运动的原子和分子。
目前广泛使用的等离子清洗机清洗技术，对于等离子清洗机的使用也是越来越广泛，其清洗技术的作用也将逐渐为大家所认识。。等离子清洗机清洗技术的作用突出 随着时代的发展，科技在不断的进步，各行各业都有了自己的进步空间，不同的行业都有不同的应用。等离子设备相信大家都了解一下，对于等离子外加工也了解了一下，那么对于等离子清洗机，它的清洗技术的作用比较突出，下面我们就来看看吧。
氩等离子体产生的离子与有机或颗粒污染物反应或碰撞，并以足够的能量与芯片表面碰撞形成挥发物。这可以去除表面的污垢并允许工作空气流动。 4)等离子清洗工艺完成后，打开等离子清洗室两侧的密封门，装载台1离开等离子清洗室，从清洗区B移到卸料区C； 5）机械爪配合传送带将装载平台1的引线框2重新装载到料箱3中。
控制等离子刻蚀机时，射频电源引起的热运动使产品质量小、运行速度快的带负电荷自由电子迅速到达负极，而正离子由于产品质量高、速度慢，很难同时到达负极。然后，在负电极附近形成负极鞘层。随着这个鞘层的加速，正离子会直轰击硅片表面，加速表面化学反应，使反应产物分离，因此其离子注入速度度极快，离子的轰击也会使各向异性离子注入。。
不同金属附着力图片表
等离子清洗的优势：在不破坏晶圆芯片及其他所用材料的表面特性、热学特性和电学特性的前提下，不同金属附着力图片对比清洗去除晶圆芯片表面的有害沾污杂质物，对半导体器件功能性、可靠性、集成度等显得尤为重要。
