高活性氧离子可与断裂的分子链发生化学反应，电晕驻极处理架子形成活性基团的亲水性外观，达到外观活化的意图；键断裂后，有机污染物的元素会与高活性氧离子发生化学反应，形成CO、CO2、H2O等分子结构，脱离表象，达到清洗表象的意图。氧气主要用于聚合物表面活化和有机污染物去除，不用于易氧化金属表面。真空电晕状态下的氧电晕为浅蓝色，而局部放电条件下类似白色。放电环境光线比较明亮，肉眼观察可能看不到真空室内的放电。
降解挥发性为传统的有机污染物（VOCs）处理方法，电晕驻极处理架子如吸收、吸附、冷凝、燃烧等，在气态污染物处理方面具有明显优势。其基本原理是在电场的加速作用下产生高能电子。当电子的平均能量超过目标分子的化学键能时，分子键断裂，达到消除气态污染物的意图。在常规意义上，电晕形状是中性气体中相当数量的电离。当气体的温度上升到其粒子的热动能可以与气体的电离能相比时，粒子之间碰撞后可以发生许多电离过程。
低温电晕中富含化学活性高的粒子，电晕驻极处理架子如电子、离子、自由基和激发分子等。废气中的污染物与这些能量较高的活性基团反应，最终转化为CO2和H2O，进而达到净化废气的意图。10.适用范围广，净化力高，特别适用于其他方法难以处理的多组分恶臭气体，如化工、医药等行业。此外，低温电晕废气处理设备占地面积也较小；电子能量高，能与所有恶臭气体分子一起工作；运营成本低；快速响应，非常快地停止，随用随开。
这些问题都会对盒贴工艺产生一定的影响，电晕驻极处理架子特别是模切盒边缘粗糙时，容易产生纸屑，会被静电粘附在盒寿命上，降低盒贴胶的开孔强度，甚至导致裂纹，从而影响盒的最终成型效果。电晕对膏盒部分进行处理，去除有机污染物，清洗粘接材料表面后，粘接材料表面发生许多物理化学变化，如刻蚀、粗糙，形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使亲水性、附着力、可染性、生物相容性和电性能分别得到提高。
电晕驻极处理装置安装示意图
ICP刻蚀辉光放电产生的活性所产生的活性粒子扩散到衬底表面，发生化学反应，会产生一些不挥发的产物，来不及在衬底表面解吸沉积。此外，一些离子对衬底产生物理轰击撞击破坏表面晶格阵列，导致基材表面出现孔洞和坑洞，造成材料表面质量的下降。同时，由于硅和碳化硅的存在，使得原衬底表面的结构不均匀。
极耳整平后，利用电晕处理设备进行冲洗，去除物体和颗粒，提高后续激光焊接的可靠性。汽车上使用的动力锂电池分为正负极，是由电芯引出的金属片。一般来说，电池的正负极是充放电时的接触点。接触面的清洁与否会影响电气连接的可靠性和耐久性。在锂电池电芯生产过程中，电极耳经常出现凹凸不平、弯曲扭曲等现象，造成假焊、假焊、短焊等现象。
用于清洁气体和电晕设备的污染物也应该有不同的选择。当一个蒸汽渗透一个或多个额外的蒸汽时，这些元素的混合物将产生所需的腐蚀和清洁效果。利用电晕设备中的离子或高活性原子，使表面污染物碰撞或形成挥发性蒸汽，通过真空系统带走，净化表面。空气中的氧气，如甲烷，在高频电磁场中。在电弧放电条件下，水蒸气等蒸气分子在快速电磁场中可以在低压下精制氧气。
这种氧化膜不仅阻碍了半导体制造的许多步骤，而且含有一些金属杂质，在一定条件下会转移到晶圆上形成电缺陷。这种氧化膜的去除常通过在稀氢氟酸中浸泡来完成。电晕在半导体晶圆清洗工艺中的应用电晕清洗具有工艺简单、操作方便、无废物处理和环境污染等优点。但不能去除碳和其他非挥发性金属或金属氧化物杂质。光刻胶的去除过程中常采用电晕清洗。
电晕驻极处理架子
