等离子预处理可以去除表层的油脂和灰尘，硝基清漆附着力赋予材料高表面能。等离子预处理技术的清洁作用去除了表层的油脂，等离子的静电引力去除了粘附在表层的尘粒，化学变化增加了表层的能量。这些层次的综合作用使等离子预处理工艺成为一种高效的专用工具。在正常情况下，不需要额外的清洗工艺或使用等离子预处理的底漆处理。。等离子清洗技术在蚀刻工艺中的应用概述等离子清洗的应用始于20世纪初。随着高新技术产业的飞速发展，其应用也越来越广泛。
显然，硝基清漆在铁上的附着力杂散电位为负，在杂散衬底与等离子体的界面处形成了阳离子的空间电荷层。因此，所有绝缘体，包括放置在等离子体中的反应器壁，形成离子鞘（如图 1-3 所示）：图 1-3 浮动底物离子鞘等离子鞘，等离子一，是等离子体鞘的具体性能与系统温度T和粒子密度n密切相关。通过研究鞘层可以理解等离子体的一些重要特性。。
转瓶等离子清洗设备在实际应用中经常使用不同的工艺气体，硝基清漆在铁上的附着力产生的等离子体中含有大量的活性粒子和高能粒子，这些粒子与固体材料表面的相互作用对于等离子体本身或固体材料来说都具有重要意义。 转瓶等离子清洗设备中的粒子将能量转移到固体材料的表面，同时等离子体带走大量杂质。
3、电弧放电区域： 在电流超过10-1安、气压也较高时，硝基清漆附着力正柱区产生的焦耳热大于颗粒扩散带向壁内的散热，使正柱区中心温度升高，气体电导率增大，使电流集中在正柱区中心，形成不稳定的收缩。导电正柱会缩成一个具有较高温度和较高电流密度的电弧，即弧光放电。电流密度为104~106安/厘米，在阴极上形成“阴极斑”，根据热电子发射(热阴极)或场致发射(冷阴极)的机理，放出电子。
硝基清漆在铁上的附着力
1.3金属半导体工艺中常见的金属杂质有铁、铜、铝、铬、钨、钛、钠、钾、锂等，这些杂质的来源主要包括各种器皿、管材、化学试剂，以及半导体晶圆加工过程中发生的各种金属污染。这类杂质的去除常采用化学方法进行。由各种试剂和化学药品配制的清洗液与金属离子反应形成金属离子络合物，从晶圆表面分离出来。1.4氧化物暴露在氧气和水中的半导体晶片表面会形成自然氧化层。
硝基清漆附着力
