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等离子体刻蚀机主要是利用射频等离子体源(或微波离子源)激发反应气体等气体离子对目标物体进行物理轰击,铁氟龙附着力参数以达到去除指定物质的手段。由于对反作用力要求较大,等离子体刻蚀机基本采用RF射频等离子体产生方式。同理,如果控制等离子体源功率等相关参数,可以降低反作用力,从而对一般电子元件进行清洗去除污染物。从这个角色,他们可以分享。但在半导体生产过程中,蚀刻和清洗往往是分开的,不共用同一套设备。

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在锂电池材料的表面处理中,大气常压等离子体技术不仅可以通过辅助沉积在材料表面形成覆盖层,还可以通过腐蚀和掺杂来调节材料表面的极性和粗糙度。还可以通过产生自由基的方式在表面吸引多种官能团。大气常压等离子体腐蚀是在材料表面形成缺陷和(纳)米孔的有效方法。通过腐蚀材料,可以增加材料的比表面积和反应活性点,为反应物和产物提供更多的传输通道。因此,大气常压等离子体腐蚀经常用于材料表面。

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