这些离子和氧自由基相互碰撞,被电场加速,相互碰撞,和材料表面层强烈破坏原始的分子结构之间的融合方式几微米深度,除了孔的深度相应的表层材料,产生微小的凹凸，附着力和耐腐蚀的关系图并将混合气体组成成活性官能团(或官能团)，可诱导表面层发生物理化学变化，去除钻孔污染，提高镀铜结合力。在等离子体清洗机中等离子体的化学反应中，活性粒子主要是正离子和氧自由基。氧自由基在化学反应中起着积极的(化学的)能量转移作用。
离子体清洗机可对材料表面进行表面清洗、表面活化、表面刻蚀： 清洗功能：等离子体是物质的一种状态，附着力和耐腐蚀的关系图也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。
等离子体的各种梯度，附着力和粘着力区别例如密度梯度和温度梯度，会引起漂移运动，漂移可以如下耦合。产生漂移波的波的形状。 【等离子表面活化】。等离子体：等离子体通常被称为物质的第四态。前三种状态是固体、液体和气体，它们比较常见，存在于我们身边。等离子体在宇宙的其他地方很丰富，但它只存在于地球上的某些环境中。等离子体的自然存在包括闪电和极光。就像将固体变成气体需要能量一样，制造等离子体也需要能量。
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附着力和耐腐蚀的关系图
公司产品生产的技术难点在于刻蚀用单晶硅数据规模必须大于硅片，目前国际规模先进工艺集成电路所用硅片以12英寸为主，对应的刻蚀用单晶硅数据一般大于14英寸，较大的可达19英寸。更重要的是保持产品参数和目标的共同性。因此，公司毛利率远高于作为溅射靶材的江丰电子（约30%)、超净高纯试剂及光刻胶配套试剂的江化微（约30%)、光刻胶专用试剂的强力新材（约40%）。。
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