在电晕问世之前，不干胶电晕机采用的是传统方式，如刮刀、砂纸研磨、水洗等人工方式。它可以去除工件表面的铁锈和氧化层，有一定的效果，但效果并没有想象的那么好。而且没有效率，也不干净，需要大量人力。如果是电路板、led灯这些行业，人工清洗是不能进行的。那么就意味着生产出来的产品质量差。电晕问世后，彻底改变了这种状况。
对于这种电子用途，不干胶电晕表面处理视频电晕表面激活剂工作时对电子器件施加的电压为零，电晕表面激活剂处理技术的这一特殊性质为该领域的工业应用开辟了新的可能性。。我们日常使用的手机、屏幕贴合、电脑键盘或其他数码产品，当按键硅胶和塑料一起使用时，如果直接用胶水或不干胶进行胶合，没有强度，不经过处理也无法将基材的表面张力提高到胶水所要求的表面张力值。若在键合前用电晕设备对键合表面进行改性，可大大提高表面结合力。
值得注意的是，不干胶电晕表面处理视频大部分电池蓝膜表面脱模剂的用量不受控制，因此脱模剂的用量可能会比较大，也许更少。如果在蓝膜表面使用大量离心剂，即使使用电晕清洗，也可能清洗不干净，这就会导致部分结构即使经过电晕清洗，粘接强度也不高的现象。常用的电晕有两种：真空电晕和常压电晕。真空电晕清洗的基本过程是抽真空，引入清洗气体（氦、氩等），施加高频电压，辉光放电产生电晕，清洗。
如果被无机物污染或污染严重，不干胶电晕机电晕发生器的作用是有限的。值得注意的是，大部分电池蓝膜表面脱模剂的用量还没有得到控制，因此脱模剂的用量可能比较大，也可能比较少。如果在蓝膜表面使用大量离心剂，即使使用电晕清洗，也可能清洗不干净，这就会导致部分结构即使经过电晕清洗，粘接强度也不高的现象。。
不干胶电晕处理机
电晕不损伤包装盒表面，可增强附着力，不易造成纸滴，易清洁工作环境，不干扰工作效率，节约高强胶成本。电晕对糊盒进行正确处理后，去除附着在表面的有机化学污染物，清洗表面。粘结材料表层产生各种物理化学变化，如刻蚀粗糙度、形成致密交联层，或引入含氧极性官能团，分别增强亲水性、附着力、可染性、生物相容性和电学性能。电晕正确处理材料表层后，材料表层状态发生显著变化。
2.引线框架和密封圈泡罩引线框架和密封圈起泡是由于其表面沾污不干净，而正常电镀工艺中的预处理工艺不能去除这种沾污，或者预处理工艺不正常，造成沾污去除不干净，这是由于镀镍层与母材结合力差，导致起泡。3.焊料区起泡焊料区起泡是由于前一道工序--钎焊工序在零件组装钎焊过程中工艺控制不严，钎焊件不干净，或者钎焊过程中有一部分整体颗粒(C)粘在焊料表面，电镀后焊料区被石墨颗粒污染的零件会产生气泡。
PCB层的参数、信号线之间的距离、驱动端和接收端的电气特性、线路终端的方式等都对串扰有一定的影响。克服串扰的主要措施有：加大平行布线间距，遵循3W法则；平行线间插入接地隔离线；减小布线层与地平面之间的距离。为了减少线间串扰，线间距要足够大。当线心间距不小于3倍线宽时，可保持70%的电场互不干扰，称为3W法则。如果98%的电场互不干扰，则可以使用10W的间距。
但C2烃的选择性较低，反应机理尚不清楚。因此，有必要对电晕作用下CO2一步氧化CH4制C2烃进行研究。在不干扰电晕反应体系的情况下，利用发射光谱技术可以在紫外-可见波段有效地探测电晕中的多种激发态物种，并实现原位分析。因此，近年来关于发射光谱原位诊断技术在电晕体系中应用的报道越来越多，但主要集中在电晕条件下CH4-H2制金刚石膜沉积体系的研究。
不干胶电晕处理机
采用两个抛刷辊，不干胶电晕机置于传送带上，旋转方向与皮带输送方向相反。但如果抛刷辊压力过大，基材会受到很大的张力拉伸，这是尺寸变化的重要原因之一。如果铜箔表面处理不干净，与抗蚀剂掩膜的附着力较差，会降低蚀刻工艺的合格率。最近由于铜箔质量的提高，在单面电路的情况下可以省去表面清洗工序。而对于1OOμm以下的精密图形，表面清洗是必不可少的工艺。。
