等离子体清洗还具有以下几个特点：容易采用数控技术，sio2上镀铝附着力自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。。1.1等离子清洗机工作条件：等离子清洗过程中需要足够的发生气体和反应气压，需要具有足够的能量才能高速撞击清洗物的表面。
在这种情况下的等离子表面处理会产生以下效果：1.1灰化表面有机层 表面会受到化学轰击在真空和瞬时高温状态下，sio2上镀铝附着力污染物部分蒸发污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空带出紫外辐射破坏污染物 因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度，所以污染层不能太厚。指纹也适用。 1.2氧化物去除 金属氧化物会与处理气体发生化学反应 这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合物。有时也采用两步处理工艺。
反应后产生的物质必须是挥发性的微混合物，镀铝附着力检测这样它们就可以被真空泵抽走。泵的容量和速度必须足够大，以快速排出反应的副产物，并且补充反应所需的气体。。
一般使用蚀刻气体以O2为主以达到足够高的缩减速率。循环蚀刻过程中单次蚀刻SiO2与Si3N4并停止在下层SiO2表面，sio2上镀铝附着力由于选择比的需要，— 般分解为SiO2蚀刻(相对低选择比)步骤和Si3N4蚀刻，后者需要对 SiO2有较高的选择比以便停止在下层SiO2表面。通常SiO2蚀刻采用CF4/CHF3等碳氟比例相对较低的蚀刻气体，而Si3N4蚀刻则采用CH2F2等碳氟比例较高的蚀刻气体。
sio2上镀铝附着力
这是因为等离子体清洁设备需要一个干净的硅界面用于湿法蚀刻以形成Sigma硅沟槽。这种深度差可以通过在蚀刻气体中引入Cl2来实现。与其他气体（如HBr）相比，氯和硅形成的副产物具有更好的气化性能，可以有效减少蚀刻副产物的沉积，提高蚀刻负荷。实验表明，Cl2的加入对改善深度差非常有效。通过引入Cl，该图案引起的深度差可改善60%。
CF4：蓝色 SF6：浅蓝色 SiF4：浅蓝色 SiCl4：浅蓝色 Cl2：浅绿色 CCl4：浅绿色 H2：粉红色 O2：浅黄色 N2：红色到黄色 Br2：红色 He：红色到紫色 Ne：砖红色 Ar：深红色 等离子清洗机产生的发光颜色不仅可以识别工艺气体，还可以定性评估工艺气体是否含有污染物。也可用于。。等离子清洗机超负荷保养知识！等离子清洗机一般分为常压等离子清洗机和真空等离子清洗机。
1-2、 芯片等离子清洗处理过程及效果 1、功率：300W 2、气体：氧气/氩气/氢气。
等离子处理机设备对表面清洗，可以清除表面上的脱模剂和添加剂等，而其活化过程，则可以确保后续的粘接工艺和涂装工艺等的品质，对于涂层处理而言，则可以进一步改善复合物的表面特性。使用这种等离子技术，可以根据特定的工艺需求，高效地对材料进行表面预处理。
镀铝附着力检测
真空低温等离子处理设备与真空泵相连，镀铝附着力检测在清洗过程中，对清洗室内的等离子体进行清洗，对物体表面进行清洗。有机物只需短时间清洗即可彻底清洗，污染物可用真空泵去除，清洗程度可达到分子水平。可以有效避免液体洗涤剂对被清洗物的二次污染。申请过程需要一定的风险管理意识。 1、真空低温等离子处理器的风险是： (1)清洗剂泄漏的危险：清洗剂通常是气体，经常使用和发送气瓶。对于通过管道的设备。
普通气体由电中性分子或原子组成。这些是电子、离子、原子、分子或自由基的一组粒子，sio2上镀铝附着力而这些粒子的值总是相等的。基于这种类型的等离子体成分，电离气体表现出两种特性： 1.电离气体是一种单导电流体，但它可以在类似于气体体积的宏观尺度上保持其电中性。 2.电离的库仑力存在于气体的带电粒子之间，并提供了一个影响和控制带电粒子群整体运动的磁场。产生等离子体的方法有很多。天体和高层大气之间有一条自然的路。
