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高密度等离子体源(例如,中微半导体icp刻蚀设备验证电感耦合等离子体 (ICP)、电子回旋共振等离子体 (ECR) 或螺旋波等离子体 (HELICON))通过化学沉积 (HDPCVD) 来激发硅烷、氧气和氩气的混合物。准备。以衬底为阴极,等离子体中的高能阳离子被吸引到晶体表面,氧与硅烷反应生成氧硅烷,通过氩离子溅射将氧硅烷去除。半导体制造中常用的印刷线制版技术有两种,相辅相成。

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中微半导体icp刻蚀设备验证

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微波腔是 MPCVD 设备的核心部件。射频等离子体发生器微波腔的各种结构会影响电场的强度和分布,从而影响等离子体状态,进而影响金刚石沉积的质量和速度。 .. MPCVD 设备中微波腔的结构研究将有助于金刚石的生长。金刚石生长谐振器常用的MPCVD方法有不锈钢谐振器型和石英钟型。石英钟罩式促进大面积金刚石薄膜的生长,但速度慢,容易污染石英管,而不锈钢具有生长谐振器式设备的能力。高速特性。

05 碳材料 柔性可穿戴电子传感器常用的碳材料包括碳纳米管和石墨烯。碳纳米管具有结晶度高、导电率高、比表面积大、合成过程中微孔大小可控、比表面积利用率100%等特点。石墨烯具有质轻、透明、优良的导电和导热性能。它在传感技术、移动通信、信息技术和电动汽车等领域具有非常重要和广泛的前景。在碳纳米管应用中,多臂碳纳米管和银用于回收印刷得到的导电聚合物。

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