在等离子体系统中，pdc-mg等离子蚀刻设备许多类型的活性粒子会引起许多反应，因此在反应过程中几乎不可能操纵特别重要和决定性的粒子。在等离子体环境中，高能粒子可以破坏分子中的共价键。高能电子参与电子能量分布函数的尾部以及非平衡等离子体中存在的强局部电场可能完成新的化学反应。 等离子体环境适用于许多化学反应。产生特定反应的能力主要取决于输入过程参数，例如气体类型、流速、压力和输入功率。边界和基地之间也有各种影响。
，pdc-mg等离子清洗设备而其他的都是基于当前驾驶理论的1/E模型。 E 模型也称为热化学模型。该模型表明，TDDB在低电场强度和高温下发生的原因是电场促进了电介质原子键的热击穿，外加电场可以延长极性分子键并使其在热过程。会更高。电场的存在降低了破坏分子键所需的能量，因此降解速率随电场呈指数增加。如果断裂键或渗透点的局部密度足够高，则形成从阳极到阴极的导电通路，此时发生失效，对应的时间就是失效时间。
此类间隔物也称为氮化硅间隔物或氮化硅/氮化硅（氧化物SIN，pdc-mg等离子清洗设备ON）间隔物。 0.18M时代，这个氮化硅侧壁的应力太高了。如果它很大，饱和电流会降低，泄漏会增加。为了降低应力，需要将沉积温度提高到700℃，这增加了量产的热成本，也增加了泄漏。所以在0.18M时代，选择了ONO的侧墙。
在防止脱胶方面，pdc-mg等离子清洗设备热熔胶和其他优质粘合剂可以防止一定程度的脱胶。先不说成本高，一旦脱胶，就有投诉和退货的问题。离子装置发射的等离子体中粒子的能量一般在几到几十个电子伏特左右，大于高分子材料的结合能（几到10个电子伏特），这是一种有机聚合物。新加入。但它远低于高能放射线，只包含材料表面，无磨损，不影响基体性能。
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表 4-2 碱土金属氧化物催化剂对反应的影响（单位：%） . 315.734 .4SrO / Y-Al2O324.619.366.216.334.2BaOr / Y-Al2O326.419.463.316.735.6 BaO负载量和催化剂烧成温度对负载为5%时负载型碱金属氧化物催化剂的催化活性是恒定的。 . BaO 负载增加，CH4 和 CO2 的转化率出现峰形变化，在负载 10% 时达到峰值。
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