等离子表面处理的化学反应和物理反应的区别

等离子设备在处理过程中，表面反应主要是化学反应。等离子体清洗，习惯上称为等离子清洗，很多气体的等离子态都能形成高活性颗粒。由化学式可知，典型的pe工艺为氧或氢等离子体工艺，历经与氧等离子的化学反应，可将非挥发性有机物转化为易挥发的CO2和水汽。除去污垢，使表面洁净；利用离子氢气可以通过化学反应除去金属表面的被氧化层，清洁金属表面。
由反应性气体离子化形成的高活性反应颗粒，在一定条件下，它与被清洗物的表面发生化学反应，其生成物为易挥发物质，可被抽除；而对于所清除气体的化学成分，选择适当的反应气体组分至关重要。pe具有表面改性、清洗速度快、选择性好、对有机污染等优点。缺陷在于可能会形成氧化物。
物理反应的等离子处理设备，又称溅射腐蚀和离子铣IM。表面物理溅射是等离子体中的正离子在电场作用下获得能量以轰击表面，与表面分子片断和原子发生碰撞，使污染物质从表面除去，并且能使表面在分子级范围内转变微观形态粗糙化，从而改善表面的粘结力。氩本身是一种惰性气体，等离子态的氩气不与表面反应，其过程为氩等离子通过物理溅射来净化表面。等离子体物理清洗并不会形成被氧化不良反应，保持被清洗物化学纯净，腐蚀各向异性，缺点是对表面有很大的损伤和热效应，选择性差，速度低。24753