该工艺要求玻璃平面清洁，电晕处理器电路图但在实际生产、储运过程中玻璃表面容易受到污染。如果不清洗，难免会出现指纹或灰尘。这些表面杂质颗粒造成的短路会导致LCD显示段出现一段时间的故障，通常表现为显示屏中显示缺失或紊乱。此外，薄膜电路因表面张力低而与玻璃结合力差也会造成失效。解决这一问题的传统方式是使用棉签和洗涤剂对液晶玻璃进行人工清洗，但这种处理方式会使废品率平均高达12%。
电晕清洗能有效去除表面的油脂、灰尘等污染物，处理器电晕机达到超净清洗的目的；在光刻胶前对ITO玻璃镀层进行电晕处理，可有效提高表面渗透性，去除污染物，减少气泡产物，去除图案转移后残留的化学物质。在LCD模组粘接过程中，去除胶水溢出、偏光片、防指纹膜等有机污染物。数字仪器、收音机、车载电脑、手机和笔记本电脑的显示器通常采用热压技术覆盖柔性薄膜或导电橡胶。电路板和显示面板之间的一种柔性连接，由两层薄片组成。
电晕蚀刻机和工件洗涤有什么明显的优势？优点：电晕刻蚀机工艺可以获得真正99%的清洗效果，电晕处理器电路图与电晕刻蚀机相比，洗涤一般只是稀释过程，与CO2清洗过程相比，电晕刻蚀机不消耗其他材料，与喷砂清洗相比，电晕刻蚀可以处理材料完整的表面结构，不仅表面突起可以在线集成，没有额外空间，低成本运行，生态环保的预备处理：电晕可以用于不同的表面活化，电晕技术可以用于塑料、金属材料、夹层玻璃、纺织品、电子产品、新能源、航空等材料的表面活化。
前者是离子蚀刻(RIE)制版技术，电晕处理器电到人操作步骤如下：（1）在晶片表面沉积厚度均匀的金属层；（2）然后在表面均匀涂覆一层光敏聚合物，即光刻胶；（3）通过光学手段将电路图形传输到光刻表面，以改变其溶解度；（4）用反应性蚀刻剂去除可溶性部分，形成掩模层；（5）去除无掩模层保护的金属蚀刻；（6）电晕剥离去除光刻胶；（7）沉积的二氧化硅或氮化硅钝化表面。另一种是马赛克灵感来自古代珠宝镶嵌工艺，或大马士革工艺。
处理器电晕机
02FPC钻通孔柔性PCB通孔和刚性PCB也可采用数控钻孔，但不适用于带式双面金属化孔电路孔的加工。由于电路图形密度高，金属化孔孔径小，而数控钻削孔径有一定的限制，许多新的钻削技术在实践中得到了应用。这些新型钻孔技术包括电晕刻蚀、激光钻孔、微孔冲孔、化学刻蚀等，这些钻孔技术比数控钻孔更容易满足卷带工艺的钻孔要求。柔性PCB通孔和刚性PCB也可采用数控钻孔，但不适用于带式双面金属化孔电路孔的加工。
抗蚀剂涂布-双面FPC制作工艺目前，抗蚀剂涂布方法根据电路图形的精度和输出可分为以下三种：缺网印刷法、干膜/感光法和液体抗蚀剂感光法。目前，抗蚀剂的涂布方法根据电路图形的精度和输出可分为以下三种：漏网印刷法、干膜/感光法和液体抗蚀剂感光法。防蚀刻油墨采用漏网印刷法将电路图案直接印在铜箔表面，是一种常用的技术，适合批量生产，成本低。线型精度在线宽/间距上可达0.2～0.3mm，但不适用于更精确的图案。
在电晕反应体系中引入少量氧气，在强电场作用下，氧气产生电晕，使光刻胶迅速氧化为挥发性气体状态，抽走物质。该清洗技术操作方便，效率高，表面清洁，无划痕，有利于保证产品质量。而且它不需要酸、碱和溶剂，因此越来越受到人们的重视。半导体的污染杂质与分类；半导体制造中需要一些有机和无机物。此外，由于工艺始终由人在洁净室进行，半导体晶圆不可避免地受到各种杂质的污染。
大大提高表面的润湿性，形成主动的表面清洁：除尘除油，精细清洁，消除静电。材料表面改性方法包括化学方法和物理方法。通常化学方法操作繁琐，使用大量有毒化学试剂，容易污染环境，对人体危害较大。与之相比，低温电晕表面处理技术具有工艺简单、操作简单、易于控制、对环境无污染等优点，越来越受到人们的青睐。
电晕处理器电到人
在电晕反应体系中加入少量O2，电晕处理器电到人在强电磁场作用下产生电晕，使光刻胶迅速氧化为挥发性气体。本清洗工艺操作简单，效率高，表面清洁，无划痕，有利于保证产品质量。成峰电晕无酸、碱、溶剂等，因此越来越受到人们的重视。半导体污染；杂质；分类；半导体生产需要一些有机和无机物。此外，由于工艺是在净化室进行的，半导体圈不可避免地受到各种杂质的污染。
二次处理可以去除胶片表面的污垢，处理器电晕机不仅有助于提高油墨的附着力，还可以改善视觉效果。鉴于此，专家建议，使用溶剂型油墨、水性油墨或UV油墨打印薄膜、金属箔或某些纸张打印带电部件时，应对基材表面进行二次电晕处理。。电晕处理器电晕机在吹膜电晕表面处理中的应用电晕处理机在包装行业俗称电晕机、电子冲击机、电火花机。学术上称之为介质阻挡放电。
