等离子刻蚀机加工消除了彩盒开口的封装问题。彩盒开口处理装置采用直喷等离子处理器。等离子蚀刻器用于产生含有大量氧原子的氧基活性物质。通过在材料表面喷射含氧等离子体，二氧化钛 表面羟基活化可以将附着在材料表面的有机污染物的碳分子分离成二氧化碳并去除。同时，可以有效改善材料的表面接触。提高强度和可靠性。铜版纸、上光纸、铜版纸、镀铝纸、浸渍纸板、UV涂层、OPP、聚丙烯、PET膜等包装彩盒，被众多客户使用。
典型的等离子物理清洗工艺是氩等离子清洗。氩气本身是惰性气体，二氧化钛 表面羟基活化等离子氩气不与表面反应，但会通过离子冲击清洁表面。典型的等离子化学清洗工艺是氧等离子清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，很容易与碳氢化合物发生反应，生成二氧化碳、一氧化碳和水等挥发性化合物，从而去除表面污染物。 2、励磁频率的分类等离子体态的密度与激发频率的关系如下。
等离子体和十种催化剂对甲烷和二氧化碳的转化有不同的影响:过渡金属氧化物是工业催化剂中最重要的催化剂之一。过渡金属氧化物的多相催化反应通常是通过催化剂的酸碱反应或氧化还原反应来进行的。甲烷(OCM)在普通催化和等离子体催化下的氧化偶联结果表明:大多数过渡金属氧化物催化剂具有一定的催化活性。结合以往等离子体催化甲烷脱氢的研究经验，二氧化钛表面羟基活化选择Mn、Fe、Co、Ni和W等过渡金属，制备了负载型金属氧化物催化剂。
自由基的作用主要表现在化学反应过程中的能量传递的“活化”作用，二氧化钛表面羟基活化处于激发状态的自由基具有较高的能量，因此易于与物体表面分子结合时会形成新的自由基，新形成的自由基同样处于不稳定的高能量状态，很可能发生分解反应，在变成较小分子的同时生成新的自由基，这种反应过程还可能继续进行下去，最后分解成水，二氧化碳之类的简单分子，在另一些情况下，自由基与物体表面分子结合的同时，回释放出大量的结合能，这种能量又成为引发新的表面反应的推动力，从而引发物体表面上的物质发生化学反应而被去除。
二氧化钛表面羟基活化
低温氧等离子体处理不仅可以提高材料的表面亲水性，而且可以提高材料的表面电导率和附着力。因此，选择合适的等离子体处理方法可以有效地改善材料的表面性能，方便人们的生产生活。。氧等离子体表面治疗仪处理二氧化硅薄膜材料的过程是怎样的？氧等离子体表面处理仪的等离子体工艺用于材料的辅助处理，其中气相与固相表面的化学反应起着关键作用。
此法流程简单，对原料适应性强，但电耗偏高，限制了它的大规模推广。60年代，美国离子弧公司以锆英砂为原料在直流电弧等离子体中一步裂解制备氧化锆。70年代末，中国以硼砂和尿素为原料，在直流电弧等离子体中制备高纯六方氮化硼粉，该法具有产品纯度高、成本低、工艺流程简单等优点。此外，还可利用等离子技术生产二氧化钛。。
等离子清洗机表层处理技术工艺不但能够清洁机壳在注塑成型时遗留下的油渍，更能最高程度上的活化塑料制品机壳表层，提升其进行印刷、涂敷等黏结实际效果，促使机壳上镀层与基材相互间十分牢固地联接，涂敷实际效果十分均衡，外表更为鲜亮，同时耐磨性能很大程度上提升，长期在使用也不会造成磨漆现像。
等离子清洗机（PLASMA CLEANER）又称等离子刻蚀机、等离子脱胶机、等离子活化剂、等离子清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理设备广泛用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶片分层、等离子镀膜、等离子灰化、等离子活化、等离子表面处理。
二氧化钛表面羟基活化
氩等离子清洗机的表面张力大大提高。活性气体产生的等离子体也可以增加表面粗糙度，二氧化钛 表面羟基活化但氩气电离产生的粒子比较重，而且氩离子在电场作用下的动能要高得多。活性气体的作用越来越明显，被广泛应用于无机基材的表面粗化处理。玻璃基板表面处理、金属基板表面处理等③ 活性气体支撑等离子清洁器活化和清洁过程通常使用工艺气体的组合来获得更好的结果。由于氩气的分子比较大，电离后产生的颗粒在表面清洗和活化时一般会与活性气体混合。
五、等离子涂镀聚合在涂镀中两种气体同时进入反应舱，二氧化钛 表面羟基活化气体在等离子环境下汇聚合。这种应用比活化和清洁的要求要严格一些。典型的应用是保护层的形成，应用于燃料容器、防刮表面、类似PTFE材质的涂镀、防水涂镀等。涂镀层非常薄，通常为几个微米，此时表面的亲和力非常好。
