等离子处理机源自德国的等离子技术是在常压情况下等离子处理机系统 糊盒机等离子系统 源自德国的等离子技术是在常压情况下，uv印刷附着力或者说是在大气条件下，产生稳定的空气等离子体，并利用空气等离子体处理材料的表面，针对纸盒处理各种UV上光层、腹膜或各种纸板印刷层。
等离子清洗机主要应用于印刷/包装行业、电子器件行业、塑料行业、家电行业、汽车行业、印刷/打码行业，偶联剂提高uv印刷附着力可直接使用。在线使用自动糊盒机。等离子主要用于各种复合材料的表面处理，如层压板、UV 玻璃、聚合物、金属、半导体、橡胶、塑料、玻璃和 PCB 电路板。胶粘剂、丝印、移印、喷漆等达到良好的效果。
等离子体还发射真空紫外(VUV)，偶联剂提高uv印刷附着力低K吸收这些高能光子，导致化学键断裂，可能在表面形成低能导电通道。这些由等离子体引起的缺陷在TDDB测试中会成为电荷陷阱，在应力作用下陷阱电荷，导致介质表面势垒降低，从而加速介质击穿。尼科尔S等研究表明，在不同电场强度下，经ECR等离子体处理或VUV辐照的低K材料的TDDB失效时间明显缩短。氢氟酸对低K SiCOH的刻蚀能力较小，但能很容易地去除碳耗尽后产生的SiO2。
一般认为CeO2/Y-Al203是CH4完全氧化生成CO的优良催化剂，偶联剂提高uv印刷附着力不利于C2烃类的生成。同样，Sm2O3/ Y-al2o3是CH4氧化偶联反应的优良催化剂，但在等离子体气氛中催化活性不明显。这说明等离子体与催化剂相互作用的机理不同于纯催化，因此等离子体表面处理器与催化剂相互作用的机理有待进一步研究。
uv印刷附着力
La203/Y-Al2O3催化剂吸附甲基自由基，促进C2烃的生成；与La203/Y-Al2O3催化剂不同，Nd2O3/Y-Al203催化剂易吸附含氧自由基，催化剂表面的甲基自由基易被含氧自由基氧化生成CO。值得注意的是，在CO2氧化CH4制C2烃中，CeO2/Y-Al203与等离子体等离子体结合表现出良好的催化活性，与CeO2/Y-Al203催化氧化偶联甲烷有明显不同。
增加粗糙度和表面极性 基团含量可以提高与胶粘剂的接触面积，提高和改善胶粘剂的润湿性 胶粘剂的机械性能 目前常用的表面改性方法有机械化学改性、辐射改性、化学改性、光学重整、偶联剂重整方法不是概念性的，因为它们效率低、污染环境、不安全，PLASMA等离子清洗重整技术不是。具有快速、环保、高效、简便、不改变材料基体的操作、节能、力学性能等优点。。等离子表面处理技术的出现彻底改变了塑料工业。
等离子表面处理设备工艺包括等离子表面清洗、等离子表面活化、等离子表面蚀刻、等离子表面涂层。等离子表面处理工艺广泛应用于精密电子、半导体、汽车制造、生物医药、新能源、印染、包装印刷等众多行业和领域。。管丝等离子清洗机的表面处理提高了非极性塑料的表面张力。管丝的表面张力低，能很好地附着在油漆表面。通过使用等离子清洗机的表面处理，在许多情况下（实际上是所有情况），可以最大化表面张力以实现所需的附着力。
半导体微电子封装，等离子清洗机加工技术，表面活化改性芯片封装生产使用等离子清洗机，可以在生产过程中形成的分子污染可以轻易去除，从而显著提高封装的可加工性，在芯片封装中，使用等离子体清洁器在粘接前清洗芯片和载体，以提高其表面活性，可以有效地防止或减少空隙，提高附着力。
偶联剂提高uv印刷附着力
某些有机化合物的表面润湿性对颜料、油墨、粘结剂的附着力、闪络电压和表面漏电流有很大影响。润湿性的量度叫做接触角。对材料的不同处理会对接触天线产生不同的影响。除了上述等离子体技术的一些应用，偶联剂提高uv印刷附着力等离子体技术还广泛应用于手机行业、半导体行业、新能源行业、高分子薄膜、材料防腐、冶金、工业废弃物处理、医疗行业、LCD显示屏组装、航天航空等诸多领域，前景广阔，令人瞩目！。
- 等离子处理机预处理提高液体墨水的持久附着力：- 等离子处理机技术的传说是这样子的呢？貌似从20世纪初开始，uv印刷附着力 - 等离子处理机技术促进了、汽车、新能源、航空航天、半导体等行业的快速发展，等离子清洗技术在许多高新技术行业获得普遍使用。等离子体清洗工艺为干法工艺，利用电能催化反应，能在较低的温度范围内，排除湿法化学清洗带来的危害和废液，安全、可靠、环保。
