除了EED和IED方向上的改进，附着力促进剂结构泛林半导体公司的混合式脉冲(AMMP，气体、射频功率等)、超高偏压射频源以及蜂窝式( Hydra)静电卡盘加热也是等离子清洗机蚀刻机台实现三维结构高品质蚀刻的有效手段。气体脉冲又称循环蚀刻( cyclic etch)，基本由保护、激活、蚀刻3部分组成。相当于把原来连续蚀刻中同时进行的保护、激活、蚀刻拆分成3个独立步骤，从而实现在目标界面上蚀刻量的严格控制。
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介质阻挡放电(DBDS)可以在高压和宽频率范围下工作，附着力促进剂结构通常在10~10大气压下工作。电源频率范围为50Hz ~ 1MHz。电极结构可以以多种方式设计。两个放电电极之间填充有相应的工作气体，用电介质覆盖一个或两个电极，也可以直接挂在放电空间或填充颗粒介质，当两个电极之间施加足够高的电压时，电极之间的蒸汽体验彼此被戳破而放电，介质阻挡放电。
其能量密度是锂电池的4倍，附着力促进剂结构成本仅为锂电池的一半，其&ldquo；多孔&rdquo；硅电池可以用于很多场景，比如智能手机等很多智能终端。
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(1) 电场+电子→高能电子（2）高能电子+分子（或原子）→（激发原子、激发自由基、自由基）活性基团(3) 活性基团+分子（原子）→产物+热(4) 活性基团+活性基团→产物+热 从上述过程可以看出，电子首先从电场中获得能量，然后通过激发或电离将能量传递给分子或原子。获得能量的分子或原子被激发，一些分子被电离成活性基团。这些反应基团与分子或原子、反应基团和反应基团碰撞后，产生稳定的产物和热量。
中科院等离子体物理研究所研究员孟月东告诉记者，等离子体中带电粒子间相互作用，性状十分活泼，运用这种特性就可以完成各种资料的表面改性。用于制鞋可防止传统工艺带来的化学污染，还能增加胶水黏性。 现在，低温等离子体技能在工业运用中较为常见，可是在我国运用的范畴还十分有限。
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等离子体对材料的改性实际上是等离子体与材料表面相互作用的过程。这个过程主要包括蚀刻材料表面、交联分子链和引入极性官能团。发生。高活性等离子体电离或激发空气中的许多分子（H2O、O2、N2 等），形成颗粒产物（N2、O2、O、H、紫外线等）。在此过程中，引入高能量并击中 PI 膜，同时 PI 膜发生交联或蚀刻，去除其表面非晶区的惰性材料，露出活性基团。
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